Deposition and analysis of thin films produced in atmospheric pressure glow discharge

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F07%3A00020440" target="_blank" >RIV/00216224:14310/07:00020440 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Deposition and analysis of thin films produced in atmospheric pressure glow discharge

Original language description

The atmospheric pressure glow discharge was used for the deposition of thin organosilicon polymer films. The plasma was burning in pure nitrogen used as a carrier gas and a small admixture of organosilicons compounds such as hexamethyldisilazane (HMDSN)or hexamethyldisiloxane (HMDSO) was used as a monomer. The temperature of the substrate was elevated up to 120 C to obtain harder thin films. The homogeneity of thin films was enhanced using movable upper electrode. Electrical measurements were used to distinguish between glow and filamentary regime. Mechanical properties of deposited films were characterised by depth sensing indentation technique. The films were polymer-like, transparent in visible range, with uniform thickness and without pinholes.

Czech name

Depozice a analýza tenkých vrstev vytořených v atmosférickém doutnavém výboji

Czech description

Tenké polymerní organosilikonové vrstvy byly deponovány v atmosférickém doutnavém výboji. Výboj byl zapálen v dusíku s malou příměsí hexamethyldisiloxanu. Teplota substrátu byla zvýšena až na 120 stupňů celsia za účelem zvýšení tvrdosti vrstev. Mezi doutnavým a filamentním výbojem bylo rozlišováno pomocí měření elektrických veličin. Mechanické vlastnosti vrstev byly určeny mikrotvrdoměrem. Vrstvy byly polymerního charakteru, průhledné v optickém spektru s uniformní tloušťkou a nízkou drsností.

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/GA202%2F06%2F1473" target="_blank" >GA202/06/1473: Deposition of thin films in dielectric barrier discharges at atmospheric pressure</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2007

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

Proceedings of XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases

ISBN

978-80-87026-01-4

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

4

Pages from-to

713-716

Publisher name

J.Schmidt, M. Šimek, S.Pekárek, V.Prukner

Place of publication

Praha

Event location

Praha

Event date

Jan 1, 2007

Type of event by nationality

WRD - Celosvětová akce

UT code for WoS article

—