Characterization of optical thin films exhibiting defects
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14330%2F05%3A00013207" target="_blank" >RIV/00216224:14330/05:00013207 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Characterization of optical thin films exhibiting defects
Original language description
In this paper the mathematical formalism enabling us to include defects of thin films into the formulae expressing their optical quantities is presented. The attention is devoted to the defects consisting in boundary roughness and inhomogeneity corresponding to the refractive index profile. This mathematical formalism is based on 2x2 matrix algebra. The Rayleigh-Rice theory (RRT) is used for describing boundary roughness. The refractive index profile is included into the matrix formalism by means a special procedure based on combination of the Drude and Wentzel-Kramers-Brillouin-Jeffries (WKBJ) approximations. The mathematical formalism is applied for the optical characterization of thin films of TiO2 and As-S chalcogenides. Using this formalism the experimental data corresponding to the ellipsometric quantities, reflectance measured from the ambient side, reflectance measured from the substrate side and transmittance are treated. The corrections of the systematic errors connected with
Czech name
Charakterizace optických tenkých vrstev vykazující defekty
Czech description
V tomto článku je prsentován matematický formalismus umožňující zahrnout defekty tenkých vrstev do rovnic vyjadřujících jejich optické konstanty. Pozornost je věnována defektům sestávajícím se z drsnosti rozhraní a nehomogenity odpovídající profilu indexu lomu. Tento matematický formalismus je založen na 2X2 maticové algebře. Rayleigh-Riceova teorie (RRT) je použita pro popis drsnosti rozhraní. Profil indexu lomu je zahrnut do maticového formalismu pomocí speciální metody založené na kombinaci Drudeho aWentzel-Kramers-Brillouin -Jeffries (WKBJ) aproximaci. Matematický formalismus je aplikován pro optickou charakterizaci vrstev TiO2 a As-S chalkogenidů. Použitím tohoto formalismu jsou zpracována experimentální data odpovídající elipsometrickým veličinám, odrazivosti měřené ze strany vnějšího prostředí, odrazivosti měřené ze strany podložky, a propustnosti. Opravy systematických chyb spojených s přístavkem pro měření odrazivosti v použitém spektrofotometru jsou provedeny prostřednictvím
Classification
Type
D - Article in proceedings
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/GA203%2F05%2F0524" target="_blank" >GA203/05/0524: Photonics glasses and amorphous films</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Article name in the collection
Advances in Optical Thin Films II
ISBN
0-8194-5981-X
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
12
Pages from-to
—
Publisher name
SPIE - The International Society for Optical Engineering
Place of publication
Bellingham, Washington, USA
Event location
September 13-15, 2005, Jena, Germany
Event date
Jan 1, 2005
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—