Preparation of Nb2O5 thin Films by d.c. Reactive Magnetron Sputtering

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216275%3A25310%2F06%3A00004488" target="_blank" >RIV/00216275:25310/06:00004488 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Preparation of Nb2O5 thin Films by d.c. Reactive Magnetron Sputtering

Original language description

Thin films of niobium oxide were deposited on silicon wafer, titanium and glass by the process of physical vapour deposition. Pure niobium solid target was used as a sputter source. Argon-oxygen admixture was introduced into the discharge chamber.

Czech name

Příprava tenkých filmů oxidu niobičného pomocí reaktivního naprašování magnetronem

Czech description

Tenké filmy oxidu niobičného byly deponovány na silikonove, titanové a sklenéné substráty procesem PVD. Terče z čistého niobu byly zdroj k odpaření. Směs argon kyslík byla použita jako reaktivní atmosféra v naprašovací komoře.

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

CA - Inorganic chemistry

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2006

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

Conference Papers CCT 2006

ISBN

80-7194-856-X

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

8

Pages from-to

500-507

Publisher name

Univerzita Pardubice

Place of publication

Pardubice

Event location

—

Event date

—

Type of event by nationality

—

UT code for WoS article

—