Plasma polymer films prepared in RF inductive coupling system

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F04%3APU49369" target="_blank" >RIV/00216305:26310/04:PU49369 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Plasma polymer films prepared in RF inductive coupling system

Original language description

We would like to demonstrate a possibility to deposit plasma polymer films of high reproducibility and controlled physico-chemical properties. Plasma polymer films were prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PE CVD) employing an RF helical coupling system [1] operated at continuous or pulsed regime. The effective power (Weff) of pulsed plasma was controlled by changing the ratio of the time when plasma is switched on (ton) to the time when plasma is switched off (toff), Weff = Wtotal × tton/(ton+ toff), where Wtotal= 50 W. Vinyltriethoxysilane (VTES) was used as the monomer. Thin films were deposited on silicon wafers or special microscope slides without flaws pretreated by Ar plasma (10 sccm, 10 Pa, 25 W) for 10 min. Employing a mechanical manipulator the pretreated substrate was placed into the plasma zone after plasma reached the steady state monitored by mass spectroscopy. The film thickness was measured by a Profiler Talystep (Taylor-Hobson) or a spectroscopic phas

Czech name

Vrstvy plazmového polymeru připravené v RF indukčně vázaném systému

Czech description

Rádi bychom ukázali možnosti depozice plazmového polymeru - vysokou reprodukovatelnost a říditelnost fyzikálně chemických vlastností. Plazmové polymery byly připravovány PE CVD metodou s využitím RF výboje pracujícího v pulzním režimu. Efektivní výkon (Weff) pulsního výboje byl řízen změnou poměru dob, kdy plazma je zapnuto (ton) k době, kdy je plazma vypnuto (toff), Weff = Wtotal × ton/(ton+ toff), kde Wtotal= 50 W. Vinyltrietoxysilan (VTES) byl použit jako monomer. Tenké vrstvy byly deponovány na SSi-wafery nebo speciální mikroskopické sklo, jež bylo předčištěno argonovým plazmatem (10 sccm, 10 Pa, 25 W) po dobu 10 min. Pomocí manipulátoru byly vrstvy zasunuty do reaktoru až po ustálení podmínek v něm. Tloušťka vrstev byla měřena Profilometrem Talystep (Taylor-Hobson) nebo fázově modulovaným elipsometrem UVISEL (Jobin Yvon).

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

JJ - Other materials

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/OC%20527.110" target="_blank" >OC 527.110: Plasma polymer films prepared in RF inductive coupling systém</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2004

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

Proc. 3rd Joint Workgroup Meeting

ISBN

—

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

3

Pages from-to

65-67

Publisher name

Neuveden

Place of publication

Itálie

Event location

Sant Feliu de Guixol

Event date

Jun 11, 2004

Type of event by nationality

WRD - Celosvětová akce

UT code for WoS article

—