Plasma polymer films prepared in RF inductive coupling system
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F05%3APU52373" target="_blank" >RIV/00216305:26310/05:PU52373 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Plasma polymer films prepared in RF inductive coupling system
Original language description
We would like to demonstrate a possibility to deposit plasma polymer films of high reproducibility and controlled physico-chemical properties. Plasma polymer films were prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PE CVD) employing an RF helical coupling system [1] operated at continuous or pulsed regime. The effective power (Weff) of pulsed plasma was controlled by changing the ratio of the time when plasma is switched on (ton) to the time when plasma is switched off (toff), Weff = Wtotal x tton/(ton+ toff), where Wtotal= 50 W. Vinyltriethoxysilane (VTES) was used as the monomer. Thin films were deposited on silicon wafers or special microscope slides without flaws pretreated by Ar plasma (10 sccm, 10 Pa, 25 W) for 10 min. Employing a mechanical manipulator the pretreated substrate was placed into the plasma zone after plasma reached the steady state monitored by mass spectroscopy. The film thickness was measured by a Profiler Talystep (Taylor-Hobson) or a spectroscopic phas
Czech name
Plazmové polymery připravené v indukčně vázaném RF výboji
Czech description
Rádi bychom ukázali možnosti depozice plazmového polymeru - vysokou reprodukovatelnost a říditelnost fyzikálně chemických vlastností. Plazmové polymery byly připravovány PE CVD metodou s využitím RF výboje pracujícího v pulzním režimu. Efektivní výkon (Weff) pulsního výboje byl řízen změnou poměru dob, kdy plazma je zapnuto (ton) k době, kdy je plazma vypnuto (toff), Weff = Wtotal x ton/(ton+ toff), kde Wtotal= 50 W. Vinyltrietoxysilan (VTES) byl použit jako monomer. Tenké vrstvy byly deponovány na SSi-wafery nebo speciální mikroskopické sklo, jež bylo předčištěno argonovým plazmatem (10 sccm, 10 Pa, 25 W) po dobu 10 min. Pomocí manipulátoru byly vrstvy zasunuty do reaktoru až po ustálení podmínek v něm. Tloušťka vrstev byla měřena Profilometrem Talystep (Taylor-Hobson) nebo fázově modulovaným elipsometrem UVISEL (Jobin Yvon).
Classification
Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
CD - Macromolecular chemistry
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Name of the periodical
Chemické listy (IF = 0.348)
ISSN
0009-2770
e-ISSN
—
Volume of the periodical
99
Issue of the periodical within the volume
09
Country of publishing house
CZ - CZECH REPUBLIC
Number of pages
2
Pages from-to
446-447
UT code for WoS article
—
EID of the result in the Scopus database
—