Processes of gelation in the system SiO2-H2O.

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F99%3APU46630" target="_blank" >RIV/00216305:26310/99:PU46630 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Processes of gelation in the system SiO2-H2O.
Original language description
The work was focused on determination of parameters of gelation process in SiO2-H2O System with additives on the base calcium or natrium chloride, sulphate, citrate and acetate. Electrokinetic measurements involved monitoring surface charge development was used. The basic material was a sol of silicon dioxide (Tosil, Silchem). Values of the zeta potential were calculated from Helmholtz-Smoluchowski relation. Were determined isoelectric points of the systems of SiO2 in the presence of salts.
Czech name
Gelace v soustavě SiO2-H2O.
Czech description
Práce byla zaměřena na sledování procesů gelace v soustavě sol SiO2- H2O v přítomnosti aditivních látek. V práci byl použit chlorid, síran a citran vápenatý. Výsledky měření elketrokinetického potenciálu byly porovnány. Byly určeny hodnoty izoelektrických bodů jedniotlivých soustav. Během gelace soustavy SiO2- H2O v přítomnosti těchto vápenatých solí dochází k tvorbě kalcium hydrosilikátového gelu C-S-H na povrchu SiO2 částic. Gelace soustavy závisí na hodnotě rozpustnosti přidané látky.

Project
<a href="/en/project/GA203%2F94%2F1568" target="_blank" >GA203/94/1568: Hydrated Materials, Chemistry of Setting and Hardening Processes.</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
1999
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)