Optimization of bent perfect Si(220)-crystal monochromator for residual strain/stress instrument-Part II
Result description
Optimized diffractometer arrangements for residual strain measurements employing curved crystal monochromators provide good luminosity and a high Dd/d resolution in the vicinity of usually used scattering angle 2qs » ?90°. Due to a variety of designs ofthe diffractometers which could be installed at a constant or different take-off angles, except a few attempts, there is a lack of experimental evidence providing a help in a choice of parameters for an optimum performance. In addition to our earlier investigations with curved Si(311) monochromator employed in different diffraction geometries, the present paper presents the monochromator properties of cylindrically bent perfect Si(220) crystals as another candidate to be used as monochromator in residual strain diffractometers.
Keywords
neutron monochromatorresidual stress measurementbent perfect crystalneutron diffraction
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Optimalizace monochromátoru založeného na ohnutém monokrystalu Si(220) pro měření zbytkových deformací/napětí ? 2. část
Original language description
Optimalizované uspořádání difraktometru pro měření zbytkových deformací pomocí zakřiveného krystalického monochromátorů poskytuje dobrou luminositu a vysoké rozlišení Dd/d v blízkosti obvykle používaného u úhlu rozptylu 2qs » ?90°. Protože se používají difraktometry různého uspořádání, které mohou být instalovány při konstantních anebo různých úhlech výletu, je málo experimentálních údajů poskytujících pomoc při výběru parametrů pro optimální výkon. Jako doplněk k našim dřívějším výzkumům s použitím zakřiveného Si(311) monochromatoru nasazeného v různých rozptylových geometriích jsou zde uváděny výsledky získané pro kvalitu monochromátoru založeného na ohnutém monokrystalu Si(220) jako dalšího kandidáta, který může být použit jako monochoramátor pro difraktometry zbytkových deformací.
Czech name
Optimalizace monochromátoru založeného na ohnutém monokrystalu Si(220) pro měření zbytkových deformací/napětí ? 2. část
Czech description
Optimalizované uspořádání difraktometru pro měření zbytkových deformací pomocí zakřiveného krystalického monochromátorů poskytuje dobrou luminositu a vysoké rozlišení Dd/d v blízkosti obvykle používaného u úhlu rozptylu 2qs » ?90°. Protože se používají difraktometry různého uspořádání, které mohou být instalovány při konstantních anebo různých úhlech výletu, je málo experimentálních údajů poskytujících pomoc při výběru parametrů pro optimální výkon. Jako doplněk k našim dřívějším výzkumům s použitím zakřiveného Si(311) monochromatoru nasazeného v různých rozptylových geometriích jsou zde uváděny výsledky získané pro kvalitu monochromátoru založeného na ohnutém monokrystalu Si(220) jako dalšího kandidáta, který může být použit jako monochoramátor pro difraktometry zbytkových deformací.
Classification
Type
Jx - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BG - Nuclear, atomic and molecular physics, accelerators
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
—
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Name of the periodical
Physica B
ISSN
0921-4526
e-ISSN
—
Volume of the periodical
368
Issue of the periodical within the volume
1-4
Country of publishing house
NL - THE KINGDOM OF THE NETHERLANDS
Number of pages
6
Pages from-to
70-75
UT code for WoS article
—
EID of the result in the Scopus database
—
Basic information
Result type
Jx - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP
BG - Nuclear, atomic and molecular physics, accelerators
Year of implementation
2005