Computations of local electric field and electric forces acting on carbon nanotubes in a DC plasma sheath.

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F05%3A24210210" target="_blank" >RIV/46747885:24210/05:24210210 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Computations of local electric field and electric forces acting on carbon nanotubes in a DC plasma sheath.

Original language description

The direct current bias has been reported as a necessary condition for aligned growth of carbon nanotubes. To clarify the mechanisms ofnanotube alignment we performed numerical calculations of the electrical field in the collisional sheath and the resultng electric force actingon the metallic droplet on the nanotube tip. Based on the model calculation, dependences of the force on various parameters, e.g. distancebetween nanotubes, height of nanotubes and form of their tips, is discussed in detail. The teoretical model also predicts how this forcedepends on the direct current bias and the resistivity of the biased substrate.

Czech name

Výpočty lokálního elektrického pole a elektrických sil působících na uhlíkové nanotrubičky v stejnosměrné plazmě.

Czech description

Stejnosměrný bias byl ohlášen jajko nutná podmínka pro vyrovnaný růst uhlíkových nanotrubiček. K objasnění mechanismu uspořádání nanotrubiček jsme provedli numerické výpočty elektrického pole v kolizním pouzdře a výsledné elektrické síly působící na kopvé kapky na vrcholku nanotrubičky. Na základě modelových výpočtů , závislosti síly na různých parametrech, např. vzdálenosti mezi nanotrubičkami, výšky nanotrubiček a tvaru jejich vrcholků se podrobně diskutují. Teoretický model též předvídá jak tato síazávisí na stejnosměrném biasu a měrném odporu biasového substrátu.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/OC%20527.60" target="_blank" >OC 527.60: Investigation of the influence of the discharge excitation type on the properties of the deposited films</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2005

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Thin Solid Films

ISSN

0040-6090

e-ISSN

—

Volume of the periodical

489/1-2

Issue of the periodical within the volume

2005

Country of publishing house

NL - THE KINGDOM OF THE NETHERLANDS

Number of pages

5

Pages from-to

—

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—