Deposition of wear resistant SiOx layers on polycarbonate using the PECVD technology

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F07%3A%40KMT0109" target="_blank" >RIV/46747885:24210/07:@KMT0109 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Deposition of wear resistant SiOx layers on polycarbonate using the PECVD technology

Original language description

The development of plazma-chemical methods of production thin layers is stimulated mainlyby the urgent need to decrease temperature during the process of layerproduction usingclassical chemical synthesis, ie. the CVD (Chemical Vapour Deposition). This feature isprovided by physical-chemical methods, when chemical reactions také place in ionizedatmosphere, ie. in plasma. Therefore are these methods utilising plasma for layer productioncalled PECVD methods (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition). Inframe of ourwork the PECVD method has been utilised for coating the polycarbonate substrate by SiOxlayer, that serves as a wear protection layer. SiOx layer has been chosen for its opticaltransparency and sufficient wear resistance. The thickness of deposited layers lies between2 _m and 4 _m.Coated as well as non-coated polycarbonate has been tested for wear resistance using theElcometer 1720 device (Abrasion, Scrubbing and Washability Tester).

Czech name

Vylučování otěruvzdorných vrstev SiOx na polykarbonátu s použitím PECVD technologie.

Czech description

Vývoj plazma chemických metod přípravy tenkých vrstev je stimulován hlavně potřebou snížit teplotu během procesu tvorby vrstvy s použitím klasické chemické syntézy , tj. CVD (Chemical Vapour Deposition). Tato vlastnost je dána fyzikálně chemckými metodami , když probíhá chemická reakce v ionizované atmosféře, tj. plazmě. Tyto metody vužívají plazmu pro tvorbu vrstvy PECVD metodami (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition). V rámci naší práce byla PECVD metoda použita pro povlakování polykarbonátovéhosubstrátu SiOx vrstvou, která složí jako otěruvzdorná vrstva. SiOx vrstva byla zvolena pro její optickou transparentnost a dostatečnou otěruvzdornost. Tloušťka vyloučených vrstev leží mezi 2 _m a 4 _m. Povlakované i nepovlakované polykarbonáty byly zkoušeny na otěruvzdornost s použitím zařízení Elcometer 1720 e (Abrasion, Scrubbing and Washability Tester).

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

JH - Ceramics, fire-proof materials and glass

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2007

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

International Conference Vacuum and Plasma Surface Engineering

ISBN

978-80-7372-266-1

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

1

Pages from-to

16

Publisher name

Technická univerzita v Liberci

Place of publication

Liberec

Event location

Hejnice

Event date

Oct 24, 2007

Type of event by nationality

EUR - Evropská akce

UT code for WoS article

—