Properties, application and trends of development of thin layer-substrate system
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23210%2F03%3A00000119" target="_blank" >RIV/49777513:23210/03:00000119 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Properties, application and trends of development of thin layer-substrate system
Original language description
Tenké povlaky jsou široce používány v mikroelektronice, elektrotechnice, strojírenství, atd. Pro všechny aplikace je nutné optimalizovat vlastnosti vrstev a nalézt optimální technologii a depoziční parametry. Nanotvrdost a skrečtest jsou nejpoužívanějšímechanické zkoušky hodnotící jakost a spolehlivost vrstev. L-S system vyžaduje komplexnější hodnocení, jsou používány další zkoušky jako korozní, teplotní odpor, krokové zkoušky jsou nyní v popředí.
Czech name
—
Czech description
—
Classification
Type
D - Article in proceedings
CEP classification
JG - Metallurgy, metal materials
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
—
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2003
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Article name in the collection
Achievements in Mechanical & Materials Engineering
ISBN
83-914458-9-5
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
8
Pages from-to
513-520
Publisher name
Silesian University of Technology
Place of publication
Gliwice
Event location
Gliwice-Zakopane
Event date
Dec 7, 2003
Type of event by nationality
EUR - Evropská akce
UT code for WoS article
—