Low-temperature sputtering of crystalline TiO2 films

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F06%3A00000510" target="_blank" >RIV/49777513:23520/06:00000510 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Low-temperature sputtering of crystalline TiO2 films

Original language description

This article reports on the investigation of reactive magnetron sputtering of transparent, crystalline titanium dioxide films. The aim of this investigation is to determine a minimum substrate surface temperature necessary to form crystalline TiO2 filmswith annatase structure. Films were prepared by dc pulsed reactive magnetron sputtering using a dual magnetron operating in bipolar mode and equipped with Ti and ceramic Ti5O9 targets.

Czech name

Nízkoteplotní naprašování krystalických vrstev TiO2

Czech description

Publikace se týká reaktivního magnetronového naprašování krystalických vrstev oxidu titanu. Cílem studia bylo určit minimální teplotu pro vytváření krystalických vrstev TiO2 se strukturou anatas. Depoziční teplota byla určována jak pomocí termočlánku, tak termostripy. Bylo prokázáno, že krystalinitu vrstev ovlivňuje nejen depoziční teplota, která výrazně závisí na vzdálenosti terč-substrát, zatížení terče a na materiálu terče a jeho chlazení, ale také na celkovém tlaku, parciálním tlaku O2, depoziční rychlosti a tloušťce vrstvy. Podrobně jsou v publikaci studovány závislosti mezi strukturou a povrchovou morfologií a jejich parametry přípravy.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2006

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Journal of Vacuum Science and Technology A

ISSN

0734-2101

e-ISSN

—

Volume of the periodical

—

Issue of the periodical within the volume

—

Country of publishing house

US - UNITED STATES

Number of pages

8

Pages from-to

521

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—