Thin films thermal properties measurement by pulse photothermal radiometry

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F08%3A00500602" target="_blank" >RIV/49777513:23520/08:00500602 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Thin films thermal properties measurement by pulse photothermal radiometry
Original language description
Thermal properties depend strongly on chemical composition, structure and temperature of the material. This is very important in the domain of thin films. Pulsed photothermal radiometry method was developed for measurement of thermal effusivity, conductivity and capacity of thin films with thickness roughly from 0.5 to 5 micrometers. In the paper are described the principle of the method, its possible applications and results of performed measurements.
Czech name
Měření tepelných vlastností tenkých vrstev pomocí pulzní fototepelné radiometrie
Czech description
Tepelné vlastnosti silně závisí na chemickém složení, struktuře a teplotě materiálu. Toto je velmi důležité pro tenké vrstvy. Metoda pulzní fototepelná radiometrie byla vyvinuta pro zjišťování tepelné efuzivity, vodivosti a kapacity tenkých vrstev o tloušťce řádově 0.5-5 mikrometrů. V příspěvku je popsán princip metody, možnosti jejího použití a ukázány výsledky některých konkrétních měření.

Publication year
2008
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)