All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

An algorithm for extremely complicated interference pattern evaluation

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60076658%3A12410%2F05%3A00006576" target="_blank" >RIV/60076658:12410/05:00006576 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    angličtina

  • Original language name

    An algorithm for extremely complicated interference pattern evaluation

  • Original language description

    An algorithm of complicated interference patterns evaluation is described. The method is applied to an interferogram taken in the pinch discharge burning in low-pressure deuterium. The obtained phase shift is then used for calculation of electron densityin the discharge channel. The results are verified with calculations based on kinetic and magnetic pressure equilibrium.

  • Czech name

    Algoritmus vyhodnocení interferogramů s extrémně komplikovanou strukturou

  • Czech description

    Je popsán algoritmus vyhodnocení složitých interferogramů. Metoda je aplikována k interferogramu pinčového výboje hořícího v deuteriu za nízkého tlaku. Získané fázové posunutí je využito ke stanovení elektronové hustoty v kanálu výboje. Výsledky jsou porovnány s výpočty založenými na podmínce rovnováhy mezi kinetickým a magnetickým tlakem.

Classification

  • Type

    J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

  • CEP classification

    BL - Plasma physics and discharge through gases

  • OECD FORD branch

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/GA202%2F05%2F2242" target="_blank" >GA202/05/2242: Investigation of new low temperature atmospheric pressure plasma sources for deposition of thin films</a><br>

  • Continuities

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Others

  • Publication year

    2005

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Name of the periodical

    REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS

  • ISSN

    0040-6090

  • e-ISSN

  • Volume of the periodical

    2005

  • Issue of the periodical within the volume

    76

  • Country of publishing house

    US - UNITED STATES

  • Number of pages

    6

  • Pages from-to

  • UT code for WoS article

  • EID of the result in the Scopus database