Effect of oxidisable substrates on the photoelectrocatalytic properties of thermally grown and particulate TiO2 layers

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22310%2F07%3A00018685" target="_blank" >RIV/60461373:22310/07:00018685 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Effect of oxidisable substrates on the photoelectrocatalytic properties of thermally grown and particulate TiO2 layers

Original language description

The photoelectrochemical properties of titanium dioxide layers, prepared by thermal oxidation of titanium at 500-750 C, were compared with those of layers of particulate (Degussa) P25, especially for oxidation of oxalic acid. The thermally formed oxide layers had rutile structures with a particle size of about 100 nm. Values of incident photon-to-current conversion efficiencies increased with rutile layer thickness and reached a maximum at about 1 m. Photocurrents for particulate TiO2 layers were aboutone order lower than those for thermal layers, due to the poor contact among individual particles, resulting in high electric resistance of the whole layer. The presence of oxalic acid had no effect on the photocurrent of thermal TiO2 layers, while in the case of porous particulate layers, the photocurrent increased strongly, due to oxalate adsorption and subsequent enhanced oxidation rate with photogenerated holes. For oxalic acid concentrations <= 10-3 M, the photocurrent decayed due t

Czech name

Vliv oxidovatelných substrátů na fotoelektrokatalytické vlastnosti tepelně připravených a částicových TiO2 vrstev.

Czech description

Byly srovnávány fotoelektrochemické vlastnosti vrstev oxidu titaničitého připravené tepelnou oxidací titanu (500-750°C) a částicových vrstev P25, především z pohledu oxidace kys. šťavelové. Vrstvy oxidu připravené tepelně měly rutilovou strukturu s velikostí částic kolem 100 nm. Hodnoty počáteční efektivity převodu fotonu na proud se zvyšovaly se zvyšující se tloušťkou vrstvy rutilu a dosahovaly maxima při 1 m. Fotoproudy částicových TiO2 vrstev byly přibližně o jeden řád nižší z důvodu špatného kontaktu jednotlivých částic, což má za následek vysoký elektrický odpor těchto vrstev. Přítomnost kys. Šťavelové nemá prakticky žádný vliv na fotoproudy v případě tepelně připravených vrstev TiO2, ale v případě částicových vrstev se fotoproud silně zvyšuje. Jeto způsobeno adsorpcí kys. šťavelové a její následnou oxidací fotogenerovanými děrami. Pro koncentraci kys. šťavelové nižší než 1mM se hodnota fotoproudu snižuje v důsledku limitovaného přenosu hmoty, což má za následek snižování koncent

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

CG - Electrochemistry

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/1M0577" target="_blank" >1M0577: Research centre for nanostructures engineering</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2007

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Journal of Applied Electrochemistry

ISSN

0021-891X

e-ISSN

—

Volume of the periodical

—

Issue of the periodical within the volume

37

Country of publishing house

DE - GERMANY

Number of pages

7

Pages from-to

1313-1319

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—