DC pulse plasmatic system with hollow cathodes for TiO2:N layers deposition ? effect of current quantity in pulse on layer properties

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22310%2F09%3A00021534" target="_blank" >RIV/60461373:22310/09:00021534 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
čeština
Original language name
DC pulzní plazmatický systém s dutými katodami pro depozici tenkých vrstev TiO2:N ? efekt velikosti proudu v pulzu na vlastnosti vrstev
Original language description
Tato práce se zabývá přípravou tenkých vrstev oxidu titaničitého cíleně modifikovaných jejich dopací dusíkem. Vrstvy byly připravovány pomocí nízkotlakého plazmatického systému v reaktoru s dutými katodami. Připravené vrstvy byly kromě důkladné fyzikálnícharakterizace (XRD, Ramanova spektroskopie, UV-Vis, XPS, AFM) posuzovány na základě jejich fotoelektrochemických vlastností.
Czech name
DC pulzní plazmatický systém s dutými katodami pro depozici tenkých vrstev TiO2:N ? efekt velikosti proudu v pulzu na vlastnosti vrstev
Czech description
Tato práce se zabývá přípravou tenkých vrstev oxidu titaničitého cíleně modifikovaných jejich dopací dusíkem. Vrstvy byly připravovány pomocí nízkotlakého plazmatického systému v reaktoru s dutými katodami. Připravené vrstvy byly kromě důkladné fyzikálnícharakterizace (XRD, Ramanova spektroskopie, UV-Vis, XPS, AFM) posuzovány na základě jejich fotoelektrochemických vlastností.

Project
<a href="/en/project/1M0577" target="_blank" >1M0577: Research centre for nanostructures engineering</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
2009
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)