System for in-situ measurement of resistivity of sensor active layer during the deposition of catalytic nanoparticles.

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22340%2F12%3A43894375" target="_blank" >RIV/60461373:22340/12:43894375 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

Systém pro in-situ měření rezistance aktivních senzorických vrstev v průběhu depozice katalytických nanočástic.

Original language description

V rámci vývoje byl navržen a zkonstruován systém pro průběžné monitorování rezistance aktivní vrstvy senzorů během procesu připrašování katalytického kovu. Připravované součástky-senzory mají elektrickou výstupní veličinu, a proto je možnost kontinuálního sledování hodnot rezistance v průběhu jejich výroby naprosto klíčová. Dotyčný systém (funkční vzorek) se skládá ze speciálního adaptéru obsahujícího patici pro senzor, precizní masky zabraňující depozici kovu mimo aktivní vrstvu, redukčního vakuového kusu s průchodkou pro elektrické vodiče, multimetru a měřicího PC vybaveného programem, který zaznamenává a vyhodnocuje změny rezistance aktivní vrstvy senzoru jako funkci času. Systém byl navržen primárně pro použití s naprašovačkou DENTON HP V Desk TSC,ale je možné ho adaptovat i pro jiné zařízení. Pro měření rezistance je v systému použit multimetr Agilent 34410A, který umožnuje měřit rezistanci senzoru v rozsahu od 1 GOhmu až do jednotek mikroOhmu. Multimetr je připojen k měřicímu PC

Czech name

Systém pro in-situ měření rezistance aktivních senzorických vrstev v průběhu depozice katalytických nanočástic.

Czech description

V rámci vývoje byl navržen a zkonstruován systém pro průběžné monitorování rezistance aktivní vrstvy senzorů během procesu připrašování katalytického kovu. Připravované součástky-senzory mají elektrickou výstupní veličinu, a proto je možnost kontinuálního sledování hodnot rezistance v průběhu jejich výroby naprosto klíčová. Dotyčný systém (funkční vzorek) se skládá ze speciálního adaptéru obsahujícího patici pro senzor, precizní masky zabraňující depozici kovu mimo aktivní vrstvu, redukčního vakuového kusu s průchodkou pro elektrické vodiče, multimetru a měřicího PC vybaveného programem, který zaznamenává a vyhodnocuje změny rezistance aktivní vrstvy senzoru jako funkci času. Systém byl navržen primárně pro použití s naprašovačkou DENTON HP V Desk TSC,ale je možné ho adaptovat i pro jiné zařízení. Pro měření rezistance je v systému použit multimetr Agilent 34410A, který umožnuje měřit rezistanci senzoru v rozsahu od 1 GOhmu až do jednotek mikroOhmu. Multimetr je připojen k měřicímu PC

Type

G_funk - Functional sample

CEP classification

JB - Sensors, detecting elements, measurement and regulation

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/GAP108%2F11%2F1298" target="_blank" >GAP108/11/1298: Detection layers based on composites of organocomplexes and nanoparticles for chemical sensors</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2012

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Internal product ID

Nanosputter 1

Numerical identification

—

Technical parameters

příjemce je zároveň uživatelem, smlouva o využití se dle pravidel neuzavírá

Economical parameters

Systém umožnuje optimalizovat připrašování katalytických nanočástic na aktivní vrstvy senzorů. Depozice nanočástic je průběžně monitorována a je možne ji zastavit za optimálních podmínek vzhledem k vlastnostem senzoru. V důsledku toho je možné minimalizovat ztráty připrašovaných kovů (Pt,Pd atd) - v důsledku toho je možné snížit provozní ztráty. Systém byl dosud vyroben v počtu 1 ks.

Application category by cost

—

Owner IČO

60461373

Owner name

Vysoká škola chemicko- technologická v Praze

Owner country

CZ - CZECH REPUBLIC

Usage type

N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)

Licence fee requirement

—

Web page

—