Immobilized Particulate TiO2 Photocatalysts for Degradation of Organic Pollutants: Effect of Layer Thickness

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61388955%3A_____%2F05%3A00085701" target="_blank" >RIV/61388955:_____/05:00085701 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Immobilized Particulate TiO2 Photocatalysts for Degradation of Organic Pollutants: Effect of Layer Thickness

Original language description

ParticulateTiO2 layers of various thickness were prepared by sedimentation from suspension and investigated by SEM, UV?vis spectroscopy, photocurrents and photodegradation rate measurement. In pure electrolyte (Na2SO4), the photocurrent reaches a maximumaround 0.5 mand then rapidly decreases with increasing thickness. The explanation consists in the fact that with increasing layer thickness the average distance of photogenerated electrons and holes from back contact of electrode increases. This resultsin higher recombination and lower electron flux (photocurrent) to the back contact. In the presence of oxalic acid, photocurrent is about one-order higher than in Na2SO4 and it does not decrease with layer thickness. It can be attributed to the strong adsorption of oxalic acid, which is directly oxidized by holes. The stationary concentration of holes is thus very small and the probability that electron/hole pairs will recombine is much lower than in pure electrolyte and ...

Czech name

Ukotvené částicové fotokatalyzátory TiO2 pro degradaci organických škodlivin: Vliv tloušťky vrstvy

Czech description

Různě tlusté vrstvy z částic TiO2 připravené sedimentací ze suspenzí byly zkoumány mikroskopicky technikou SEM, metodami UV/VIS spektroskopie, měřením fotoproudů a stanovením rychlostí fotodegradace. V čistém elektrolytu (Na2SO4) změřené fotoproudy dosáhly maxima pro tloušťku vrstvy kolem 0.5 .mu.m, přičemž při dalším zvětšování tloušťky prudce klesaly. Vysvětlením je skutečnost, že s rostoucí tloušťkou vrstvy TiO2 vzrůstá průměrná vzdálenost fotogenerovaných elektronů a děr od spodního rozhraní vrstvya vodivého kontaktu elektrody. To vede ke zvýšení rekombinace a snížení fotoproudu. Za přítomnosti kyseliny šťavelové byl fotoproud zhruba o řád vyšší než v čistém elektrolytu Na2SO4 a navíc neklesal s rostoucí tloušťkou vrstvy. To může být přisouzeno silné adsorpci kyseliny šťavelové, která je pak přímo oxidována přenosem kladných děr. V důsledku toho je fotostacionární koncentrace děr tak nízká, ...

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

CG - Electrochemistry

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/GA104%2F02%2F0662" target="_blank" >GA104/02/0662: Application of advanced oxidation processes utilizing solar energy in combination with non-ionogenic selective sorption for water decontamination</a><br>

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2005

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Electrochimica acta

ISSN

0013-4686

e-ISSN

—

Volume of the periodical

50

Issue of the periodical within the volume

25-26

Country of publishing house

GB - UNITED KINGDOM

Number of pages

6

Pages from-to

5255-5260

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—