The Performance of Amorphous Carbon Films with Silicon Content Deposited Using Low Pressure PECVD

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389005%3A_____%2F08%3A00315555" target="_blank" >RIV/61389005:_____/08:00315555 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/68081723:_____/08:00315555 RIV/68081731:_____/08:00315555
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
The Performance of Amorphous Carbon Films with Silicon Content Deposited Using Low Pressure PECVD
Original language description
Amorphous carbon films with silicon content were deposited using low pressure PECVD. The films were optimised for deposition on steel substrates. To evaluate the impact resistance of graded amorphous carbon films in dynamic loading wear applications an impact test has been used.
Czech name
Funkčnost amorfních uhlíkových povlaků s obsahem křemíku deponovaných použitím nízkotlaké PECVD
Czech description
Amorfní vrstvy uhlíku dopované křemíkem byly deponovány PECVD. Vrstvy byly optimalizovány pro depozici na ocelové podložky. K vyhodnocení chování při dynamickém zatěžování byl použit impaktní tester.

Project
Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2008
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)