RBS and XPS measurements of Ag and Er implantation into the silica

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389005%3A_____%2F09%3A00323154" target="_blank" >RIV/61389005:_____/09:00323154 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

RBS and XPS measurements of Ag and Er implantation into the silica

Original language description

Metal particle implantation into glasses has promising properties for application in optical devices. These properties depend on the size, shape, density and spatial distribution of metal particles. Heavy-ion implantation of silica glasses is an efficient method of fabrication of the metal-nanoparticles composites that are promising for ultra-fast optical devices. The Ag+ and Er+ ions were implanted into silicate glasses on implantor in collaboration with Forschungzentrum Dresden-Rossendorf. The depth distributions of implanted metal were investigated by RBS and XPS analytical methods. SRIM 2006 calculations were used for comparison. Implantation of Ag and Er ions into silicate glass was studied. The energies of the implanted Ag and Er ions were 330 keV and used implantation fluence of ions was 1.0 x 1016 ions.cm-2.

Czech name

Měření Ag a Er implantovaných v silikátových sklech metodami XPS a RBS

Czech description

Implantace kovových částic do skel vykazuje slibné vlastnosti v oblasti aplikací pro optická zařízení. Vlastnosti implantací vytvořených struktur ve sklech závisí na velikosti, tvaru, hustotě a prostorovém rozdělení vzniklých kovových částic. Iontová implantace je efektivní metoda přípravy kovových nano-částic a kompozitů obsahujících kovové nano-částice ve sklech, kde jsou potenciálně aplikovatelné pro ultra-rychlé optické součástky. Ag+ a Er+ ionty byly implantovány do silikátových skel s využitím implantátoru ve Forschungzentrum Dresden-Rossendorf, hloubková distribuce implantovaných prvků byla zkoumána metodami RBS a XPS. SRIM 2006 byl použit pro srovnávací simulace implantovaných profilů. Energie implantovaných částic byla 330 keV a použitá fluence iontů byla 1.0 x 1016 ions.cm-2.

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

BG - Nuclear, atomic and molecular physics, accelerators

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/KJB100480601" target="_blank" >KJB100480601: Ion Beam Analysis study of crystalline structures</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2009

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

Book of Contributed Papers

ISBN

978-80-89186-45-7

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

2

Pages from-to

—

Publisher name

Department of Experimental Physics, Comenius University in Bratislava

Place of publication

Bratislava

Event location

Liptovský Ján

Event date

Jan 17, 2009

Type of event by nationality

WRD - Celosvětová akce

UT code for WoS article

—