Study of degradation and regeneration of silicon polymers using cathodoluminescence

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389013%3A_____%2F08%3A00316741" target="_blank" >RIV/61389013:_____/08:00316741 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/68081731:_____/08:00316741
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Study of degradation and regeneration of silicon polymers using cathodoluminescence
Original language description
Silicon polymers are widely studied materials in recent years, because they show very promising properties for the application in electronics. Their properties such as phase of matter, thermochromism, piezochromism, semiconductivity, photoreactivity, light emission and optical nonlinearity, have become very interesting. Our interest has been focused on the group of polysilanes (often also called polysilylenes), especially on poly[methyl(phenyl)silylene] (PMPhSi), having linear backbone of linked siliconatoms. Cathodoluminescence degradation and regeneration of PMPhSi are presented in this paper.
Czech name
Studium degradace a regenerace křemíkových polymerů s využitím katodoluminiscence
Czech description
Vzhledem k tomu, že křemíkové polymery jeví slibné vlastnosti pro aplikace v elektronice, v posledních letech patří mezi často studované materiály. Jejich vlastnosti, jako například fáze látky, termochromismus, piezochromismus, polovodivost, fotoreakce,světelná emise a optická nelinearita, jsou velmi zajímavé. Náš zájem se soustředil na skupinu polysilanů poly[methyl(phenyl)silylene] (PMPhSi), které mají lineární páteř propojených křemíkových atomů. V této práci jsou presentovány degradace a regeneracekatodoluminiscence PMPhSi.

Project
<a href="/en/project/IAA100100622" target="_blank" >IAA100100622: CONJUGATED SILICON ? BASED POLYMER RESISTS FOR NANOTECHNOLOGIES</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2008
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection
EMC 2008 - 14th European Microscopy Congress - Volume 2: Materials Science
ISBN
978-3-540-85225-4
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
2
Pages from-to
—
Publisher name
Springer
Place of publication
Berlin
Event location
Aachen
Event date
Sep 1, 2008
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—

Similar results(10)