Method of measuring the ion mass distribution function in a low temperature plasma and apparatus for this
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989592%3A15310%2F20%3A73604097" target="_blank" >RIV/61989592:15310/20:73604097 - isvavai.cz</a>
Result on the web
<a href="https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/Patents/FullDocuments/308/308234.pdf" target="_blank" >https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/Patents/FullDocuments/308/308234.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Způsob měření iontové hmotnostní rozdělovací funkce v nízkoteplotním plazmatu a zařízení pro provádění tohoto způsobu
Original language description
Způsob měření iontové hmotnostní rozdělovací funkce v nízkoteplotním plazmatu aplikovaném v plazmochemickém reaktoru, v němž je umístěn měřený plazmatický objekt, který je vybaven zdrojem napájení výboje napojeným na výbojovou elektrodu a referenční elektrodu, ve kterém je zabudována elektrony separující sonda vybavená sběrnou elektrodou a který je propojen na řídicí počítač. Podstatou vynálezu je, že po primárním nastavení parametrů měřicího systému se jednak postupně nastavuje referenční napětí na elektrony separující sondě a její sběrné elektrodě a měří se proud procházející přes referenční elektrodu, plazmatickým objektem a sběrnou elektrodou a jednak jsou pomocí referenčního detektoru a snímacího detektoru průběžně vyhodnocovány amplitudy digitalizovaných vysokofrekvenčních signálů přicházejících z elektrony separující sondy a ze sběrné elektrody.
Czech name
Způsob měření iontové hmotnostní rozdělovací funkce v nízkoteplotním plazmatu a zařízení pro provádění tohoto způsobu
Czech description
Způsob měření iontové hmotnostní rozdělovací funkce v nízkoteplotním plazmatu aplikovaném v plazmochemickém reaktoru, v němž je umístěn měřený plazmatický objekt, který je vybaven zdrojem napájení výboje napojeným na výbojovou elektrodu a referenční elektrodu, ve kterém je zabudována elektrony separující sonda vybavená sběrnou elektrodou a který je propojen na řídicí počítač. Podstatou vynálezu je, že po primárním nastavení parametrů měřicího systému se jednak postupně nastavuje referenční napětí na elektrony separující sondě a její sběrné elektrodě a měří se proud procházející přes referenční elektrodu, plazmatickým objektem a sběrnou elektrodou a jednak jsou pomocí referenčního detektoru a snímacího detektoru průběžně vyhodnocovány amplitudy digitalizovaných vysokofrekvenčních signálů přicházejících z elektrony separující sondy a ze sběrné elektrody.
Classification
Type
P - Patent
CEP classification
—
OECD FORD branch
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Result continuities
Project
<a href="/en/project/TH03020196" target="_blank" >TH03020196: Advanced methods of preparation of thin film structured systems for optical applications</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2020
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Patent/design ID
308234
Publisher
CZ001 -
Publisher name
Industrial Property Office
Place of publication
Prague
Publication country
CZ - CZECH REPUBLIC
Date of acceptance
Jan 26, 2020
Owner name
Univerzita Palackého v Olomouci
Method of use
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence