A method for measuring the ion distribution function in a low temperature plasma, a measuring system for implementing the method and the probe for measuring system
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F14%3A00429387" target="_blank" >RIV/68378271:_____/14:00429387 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/61389021:_____/14:00429387
Result on the web
<a href="http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=1760204&lan=cs" target="_blank" >http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=1760204&lan=cs</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém
Original language description
Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu diagnostikovaného plazmového objektu v měřícím systému aplikovaném na plazmochemický reaktor, který je vybaven napájecím zdrojem napojeným na výbojovou elektrodu a referenční elektrodu. Podstata vynálezu spočívá v tom, že po primárním nastavení parametrů měřicího systému pomocí proudových hodnot zdroje referenčního napětí je na sběrné elektrodě snímána volt-ampérová charakteristika iontové složky proudu vzniklého napájením výbojů a procházejícího obvodem: plazmatický objekt ? sběrná elektroda ? proudový převodník - zdroj referenčního napětí ? referenční elektroda, z níž je vyhodnocením v řídicí a měřicí jednotce stanovena iontová distribuční funkce plazmového zdroje. Dále je podstatou vynálezu měřící systém pro provádění tohoto způsobu a konstrukce sondy pro tento měřící systém.
Czech name
Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém
Czech description
Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu diagnostikovaného plazmového objektu v měřícím systému aplikovaném na plazmochemický reaktor, který je vybaven napájecím zdrojem napojeným na výbojovou elektrodu a referenční elektrodu. Podstata vynálezu spočívá v tom, že po primárním nastavení parametrů měřicího systému pomocí proudových hodnot zdroje referenčního napětí je na sběrné elektrodě snímána volt-ampérová charakteristika iontové složky proudu vzniklého napájením výbojů a procházejícího obvodem: plazmatický objekt ? sběrná elektroda ? proudový převodník - zdroj referenčního napětí ? referenční elektroda, z níž je vyhodnocením v řídicí a měřicí jednotce stanovena iontová distribuční funkce plazmového zdroje. Dále je podstatou vynálezu měřící systém pro provádění tohoto způsobu a konstrukce sondy pro tento měřící systém.
Classification
Type
P - Patent
CEP classification
BH - Optics, masers and lasers
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/TA01010517" target="_blank" >TA01010517: Modern multilayer optical structures.</a><br>
Continuities
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Others
Publication year
2014
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Patent/design ID
304493
Publisher
CZ001 -
Publisher name
Industrial Property Office
Place of publication
Prague
Publication country
CZ - CZECH REPUBLIC
Date of acceptance
Apr 16, 2014
Owner name
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i - Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i
Method of use
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence