IR Laser Ablation of Silicon Monoxide in Gaseous Methanol and Hydrocarbons: Deposition of Polyoxocarbosilane
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985858%3A_____%2F04%3A00104766" target="_blank" >RIV/67985858:_____/04:00104766 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
IR Laser Ablation of Silicon Monoxide in Gaseous Methanol and Hydrocarbons: Deposition of Polyoxocarbosilane
Original language description
TEA CO2 laser-induced (thermal) ablation of amorphous silicon monoxide in gaseous methanol and hydrocarbon (ethane, ethene, ethyne) results in chemical vapour deposition of solid nano-structured polyoxocarbosilane coatings. The coatings analyzed by FTIRspectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) are revealed as composed of different SikOlHmCn configurations and containing Si---OCHx, Si---CHx and Si---H bonds (ablation in methanol) or Si---H and Si---CHx bonds (ablation in hydrocarbons). Theenrichment by H and CHx groups is dependent on methanol and hydrocarbon pressure. The incorporation of carbon during the SiO ablation in hydrocarbons grows in the series ethane
Czech name
IČ laserově iniciovaná ablace oxidu křemnatého v plynech metanolu a uhlovodíků : deposice polyoxokarbosilanu
Czech description
TEA CO2 laserově (tepelně) iniciovaná ablace amorfního oxidu křemnatého v parách metanolu a uhlovodíků vede k chemické deposici pevných nano-strukturovaných polyoxokarbosilanových povlaků. Tyto materiály byly charakterizovány pomocí IČ a XP spektroskopiea interpretovány jako struktury obsahující Si-OCHx, Si-CHx and S-H vazby (ablace v parách metanolu) nebo Si-H and Si-CHx vazby (ablace v parách uhlovodíků). Obohacení H a CHx skupinami je závislé na tlaku metanolu a uhlovodíků. Inkorporace uhlíku běhemSiO ablace v parách uhlovodíků vzrůstá v řadě metan -ethylén -etan
Classification
Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
CH - Nuclear and quantum chemistry, photo chemistry
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/GA203%2F00%2F1288" target="_blank" >GA203/00/1288: Laser ablation and chemistry of silicon monoxide</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2004
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Name of the periodical
Journal of Analytical and Applied Pyrolysis
ISSN
0165-2370
e-ISSN
—
Volume of the periodical
71
Issue of the periodical within the volume
2
Country of publishing house
NL - THE KINGDOM OF THE NETHERLANDS
Number of pages
14
Pages from-to
431-444
UT code for WoS article
—
EID of the result in the Scopus database
—