IR Laser Decomposition of 1,3-Disilacyclobutane in Presence of Carbon Disulfide: Chemical Vapour Deposition of Polythiacarbosilane

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985858%3A_____%2F04%3A00104840" target="_blank" >RIV/67985858:_____/04:00104840 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

IR Laser Decomposition of 1,3-Disilacyclobutane in Presence of Carbon Disulfide: Chemical Vapour Deposition of Polythiacarbosilane

Original language description

TEA CO2 laser irradiation of gaseous mixtures of 1,3-disilacyclobutane ů carbon disulfide affords chemical vapour deposition of solid polythiacarbosilane films that possess Si-S-X ( X= Si, C), S-H and Si-H bonds and undergo slow hydrolysis in air to polyoxothiacarbosilanes containing Si-H, Si-O-Si and (C)S-H bonds. The formation of the polythiocarbosilane is proposed to take place via dehydrogenative polymerization of transient silene and incorporation of CS2 into formed polysilene network

Czech name

IČ laserový rozklad 1,3-disilacyklobutanu v přítomnosti sirouhlíku: chemická deposice polythiakarbosilanu z plynné fáze

Czech description

TEA CO2 laserové ozařování plynných směsí 1,3-disilacyklobutanu a sirouhlíku dovoluje uskutečnit chemickou deposici pevných polythiakarbosilanových filmů, které mají Si-S-X ( X= Si, C), S-H a Si-H vazby a které podléhají pomalé hydrolýze na vzduchu na polyoxothiakarbosilany obsahující Si-H, Si-O-Si a (C)S-H vazby. Tvorba polythiakarbosilanu je interpretována tak, že probíhá přes dehydrogenační polymerizaci přechodného silenu a inkorporaci CS2 do vytvářené struktury polysilenu

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

CC - Organic chemistry

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/ME%20612" target="_blank" >ME 612: Laser deposition of novel polymers and composites</a><br>

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2004

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Journal of Organometallic Chemistry

ISSN

0022-328X

e-ISSN

—

Volume of the periodical

689

Issue of the periodical within the volume

16

Country of publishing house

US - UNITED STATES

Number of pages

5

Pages from-to

2697-2701

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—