UV Laser Deposition of Nanostructured Si/C/O/N/H Precursor to Silicon Oxycarbonitride
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985858%3A_____%2F06%3A00055089" target="_blank" >RIV/67985858:_____/06:00055089 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
UV Laser Deposition of Nanostructured Si/C/O/N/H Precursor to Silicon Oxycarbonitride
Original language description
Megawatt ArF laser photolysis of gaseous methyldisilazanes [(CH3)nH3-nSi]2NH (n = 2,3) in excess of Ar yields hydrocarbons (major volatile products), methylsilanes (minor volatile products) and allows chemical vapour deposition of solid amorphous Si/C/O/N/H powder containing Si-X (X = C, H, O, N) bonds. The incorporation of O is due to a high reactivity of the primarily formed products towards air moisture. The resulting solid materials possess nanometer-sized texture, high specific area, contain Si-centered radicals and they anneal to silicon oxycarbonitride, whose structure is described as a network of O- and N-interconnected Si and C atoms.
Czech name
UV laserově iniciovaná chemická deposice nanostrukturovaného Si/C/O/N/H prekursoru oxykarbonitridu křemíku
Czech description
MW ArF laserově iniciovaná fotolýza plynných methyldisilazanů [(CH3)nH3-nSi]2NH (n = 2,3) v přebytku Ar vede k tvorbě uhlovodíků a methylsilanů a dovoluje chemickou deposici amorfního Si/C/O/N/H prášku obsahujícího Si-X (X = C, H, O, N) vazby. Inkorporace O je způsobena vysokou reaktivitou primárně vzniklých produktů vůči vzduchu a vlhkosti. Resultující pevné materiály jsou nanostrukturované, mají vysoký specifický povrch, obsahují Si radikálová centra a lze je převést záhřevem na oxykarbonitrid křemíku, jehož strukturu lze popsat jako síť Si a C atomů spojených O- a N-můstky.
Classification
Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
CA - Inorganic chemistry
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/ME%20684" target="_blank" >ME 684: By laser and Cl atom iniciated deposition of new polykarbosilazan from gas phase.</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2006
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Name of the periodical
Applied Organometallic Chemistry
ISSN
0268-2605
e-ISSN
—
Volume of the periodical
20
Issue of the periodical within the volume
10
Country of publishing house
GB - UNITED KINGDOM
Number of pages
8
Pages from-to
648-655
UT code for WoS article
—
EID of the result in the Scopus database
—