UV Laser Co-Photolytic Approach to Gas-Phase Formation and Deposition of Nano-Sized Germanium Sulfides.

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985858%3A_____%2F06%3A00081921" target="_blank" >RIV/67985858:_____/06:00081921 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
UV Laser Co-Photolytic Approach to Gas-Phase Formation and Deposition of Nano-Sized Germanium Sulfides.
Original language description
ArF laser co-photolysis of gaseous tetramethylgermane-thiirane mixtures resuls in chemical vapour deposition of nano-sized germanium sulfides (GeS and GeS2) whose formation is explained by gas-phase reaction between transiently formed nanosized clustersof S and Ge atoms.
Czech name
UV laserově ko-fotolytický přístup k tvorbě nanorozměrných germanium sulfidů v plynné fázi a jejich deposici.
Czech description
ArF laseová ko-fotolýza plynných směsí tetramethylgermanu a thiiranu vede k deposici nanorozměrných germanium sulfidů (GeS a GeS2), jejichž tvorba je vysvětlena reakcí mezi přechodně vzniklými nanorozměrnými shluky atomů S a Ge.

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
CH - Nuclear and quantum chemistry, photo chemistry
OECD FORD branch
—

Project
<a href="/en/project/ME%20486" target="_blank" >ME 486: optical gain and electroluminescence in silicon nanocrystals</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2006
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)