Study of carbon films on silicon substrates

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F05%3A00109097" target="_blank" >RIV/68081731:_____/05:00109097 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Study of carbon films on silicon substrates

Original language description

Carbon based films on silicon substrates have been studied by high resolution FE SEM equipped by an EDS analyzer. The first type are carbon nanotube (CNT) films prepared on Si/SiO2 substrates with Ni or Fe layers by radiofrequency plasma chemical vapor deposition. Dependence of nanotube films properties on Ni and Fe thickness and deposition conditions have been studied. The second type of films discussed are microcrystalline and nanocrystalline diamond films grown on pre-treated Si substrates by microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD). The pre-treatment was varied and its effect on diamond films was studied

Czech name

Studium uhlíkových vrstev na křemíkových podložkách

Czech description

Vrstvy na bázi uhlíku nanesené na křemíkové podložky, byly studovány pomocí FE REM s vysokým rozlišením a EDS analyzátoru. Vrstvy prvního typu uhlíkových nanotrubic (UNT ) byly deponovány na Si/SiO2 podložkách s Ni nebo Fe vrstvou plazmochemicky ve radiofrekvenčním výboji. Byla studována závislost vlastností vrstvy nanotrubic na tlouštce Ni nebo Fe a na depozičních podmínkách. Druhý studovaný typ vrstev byly mikro- krystalické a nano-krystalické vrstvy diamantu rostlé na předem určitým způsobem připravených Si podložkách plazmochemicky v mikrovlnném výboji (MPCVD). Způsob předchozí přípravy podložek byl různý a jeho a byl studován jeho vliv na výslednou diamantovou vrstvu

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

JI - Composite materials

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2005

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Materials Science Forum

ISSN

0255-5476

e-ISSN

—

Volume of the periodical

Neuveden

Issue of the periodical within the volume

482

Country of publishing house

CH - SWITZERLAND

Number of pages

4

Pages from-to

203-206

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—