Reducing the Size of a Rectangular-Shaped Electron Beam in E-Beam Writing System

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F07%3A00092589" target="_blank" >RIV/68081731:_____/07:00092589 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Reducing the Size of a Rectangular-Shaped Electron Beam in E-Beam Writing System
Original language description
The minimum stamp size of the electron-beam writing system working with rectangular variable-size beam shape was reduced from 100 nm to 50 nm by modification of electron-optical system. Consequently the writing speed was increased due to four time highercurrent density.
Czech name
Zmenšení rozměru pravoúhlého elektronového svazku v elektronovém litografu
Czech description
Úpravou elektronově optického systému byl zmenšen minimální rozměr razítka v elektronovém litografu pracujícím s pravoúhlým tvarovatelným svazkem ze 100 nm na 50 nm. Následně došlo ke zvýšení rychlosti zápisu díky čtyřikrát zvýšené proudové hustotě.

Project
<a href="/en/project/GA102%2F05%2F2325" target="_blank" >GA102/05/2325: Electron-beam lithography for preparation of nanostructures</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2007
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection
Proceedings of the 8th Multinational Congress on Microscopy
ISBN
978-80-239-9397-4
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
2
Pages from-to
87-88
Publisher name
Czechoslovak Microscopy Society
Place of publication
Prague
Event location
Prague
Event date
Jun 17, 2007
Type of event by nationality
EUR - Evropská akce
UT code for WoS article
—

Similar results(10)