All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Electron-beam writing system for diffractive optical elements

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F06%3A00094701" target="_blank" >RIV/68081731:_____/06:00094701 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    čeština

  • Original language name

    Modernizovaný elektronový litograf pro optické difraktivní struktury

  • Original language description

    Elektronový litograf BS601M je elektronově-optické zařízení vyvinuté a optimalizované pro výrobu difraktivních optických struktur. Na elektronovém litografu se přímou ezpozicí elektronovým svazkem do rezistu naneseného na Si-podložce exponují mikrostruktury, které se používají jako mastery v následné technologii výroby holografických struktur. Elektronový litograf pracuje s konstantním urychlovacím napětím 15 kV, pravoúhlým tvarovatelným svazek od (50 H 50) nm do (3150 H 3150) nm s krokem 50 nm, s vychylovacím polem (3 H 3) mm s krokem 50 nm a s maximální exponovatelná oblast je (100 H 80) mm. Rychlost typické expozice (600 mil. razítek H 30 H 30 mm) je 2.5 hodiny.

  • Czech name

    Modernizovaný elektronový litograf pro optické difraktivní struktury

  • Czech description

    Elektronový litograf BS601M je elektronově-optické zařízení vyvinuté a optimalizované pro výrobu difraktivních optických struktur. Na elektronovém litografu se přímou ezpozicí elektronovým svazkem do rezistu naneseného na Si-podložce exponují mikrostruktury, které se používají jako mastery v následné technologii výroby holografických struktur. Elektronový litograf pracuje s konstantním urychlovacím napětím 15 kV, pravoúhlým tvarovatelným svazek od (50 H 50) nm do (3150 H 3150) nm s krokem 50 nm, s vychylovacím polem (3 H 3) mm s krokem 50 nm a s maximální exponovatelná oblast je (100 H 80) mm. Rychlost typické expozice (600 mil. razítek H 30 H 30 mm) je 2.5 hodiny.

Classification

  • Type

    Z<sub>x</sub> - Unclassified - Trial operation, verified technology, variety, breed

  • CEP classification

    JA - Electronics and optoelectronics

  • OECD FORD branch

Result continuities

  • Project

  • Continuities

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Others

  • Publication year

    2006

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Internal product ID

    65701

  • Numerical identification

  • Technical parameters

    Urychlovací napětí elektronové trysky 15 kV.

  • Economical parameters

    Elektronový litograf BS601M byl nainstalován ve firmě Optaglio v červenci roku 2006 kde nahradil obdobné zastaralé zařízení s horšími parametry.

  • Application category by cost

  • Owner IČO

    68081731

  • Owner name

    Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.

  • Owner country

    CZ - CZECH REPUBLIC

  • Usage type

    A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

  • Licence fee requirement

    A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

  • Web page