Scanning Probe Nanolithography Methods
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F14%3A00433910" target="_blank" >RIV/68081731:_____/14:00433910 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Metody zápisu nanostruktur rastrovací sondou
Original language description
Moderní průmysl a technologie neustále zvyšuje svoje požadavky na vytváření drobných struktur, jejichž rozměry jsou v nanometrovém rozlišení. Technika mikroskopie v blízkém poli, tedy i AFM (atomic force microscopy - mikroskopie atomárních sil) prodělalaběhem posledních dvou desetiletí velký rozvoj, co se týká měření, ale i opracováním povrchů a vytváření různých nanostruktur. Byly vyvinuty různé techniky využívající zařízení AFM k přípravě struktur v nano rozměrech. Tyto techniky jsou označovány jakoSPL (scanning probe lithography - litografie rastrující sondou) a jsou používány k vytváření nanostruktur a nanozařízení v různých materiálech (kovy, oxidy, polovodiče, ale také polymerní materiály). Lze jimi připravovat různé tvary od jednotlivých bodů,čar a mřížek až po 3D struktury s rozmněry od desítek až po stovky nanometrů. Takto připravené struktury pak mohou vykazovat zcela nové vlastnosti (např. větší katalytickou aktivitu) díky velkému poměru plochy k objemu těchto struktur. Z
Czech name
Metody zápisu nanostruktur rastrovací sondou
Czech description
Moderní průmysl a technologie neustále zvyšuje svoje požadavky na vytváření drobných struktur, jejichž rozměry jsou v nanometrovém rozlišení. Technika mikroskopie v blízkém poli, tedy i AFM (atomic force microscopy - mikroskopie atomárních sil) prodělalaběhem posledních dvou desetiletí velký rozvoj, co se týká měření, ale i opracováním povrchů a vytváření různých nanostruktur. Byly vyvinuty různé techniky využívající zařízení AFM k přípravě struktur v nano rozměrech. Tyto techniky jsou označovány jakoSPL (scanning probe lithography - litografie rastrující sondou) a jsou používány k vytváření nanostruktur a nanozařízení v různých materiálech (kovy, oxidy, polovodiče, ale také polymerní materiály). Lze jimi připravovat různé tvary od jednotlivých bodů,čar a mřížek až po 3D struktury s rozmněry od desítek až po stovky nanometrů. Takto připravené struktury pak mohou vykazovat zcela nové vlastnosti (např. větší katalytickou aktivitu) díky velkému poměru plochy k objemu těchto struktur. Z
Classification
Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
JA - Electronics and optoelectronics
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/LO1212" target="_blank" >LO1212: ALISI - Centre of advanced diagnostic methods and technologies</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2014
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Name of the periodical
Chemické listy
ISSN
0009-2770
e-ISSN
—
Volume of the periodical
108
Issue of the periodical within the volume
10
Country of publishing house
CZ - CZECH REPUBLIC
Number of pages
5
Pages from-to
937-941
UT code for WoS article
000344829300003
EID of the result in the Scopus database
—