CVD furnace for graphene fabrication with sliding reactor
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F23%3A00573414" target="_blank" >RIV/68081731:_____/23:00573414 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
CVD pec pro výrobu grafenu s posuvným reaktorem
Original language description
Funkční vzorek pro růst kvalitního grafenu byl navržen v rámci řešení projektu GA22-34286S – Zkoumání rozptylových jevů elektronů ve dvourozměrných krystalických materiálech při velmi nízkých energiích. Aplikace grafenu do nových součástek s sebou nese nutnost kvalitní CVD sestavy pro růst grafenu. Růst grafenu a jeho výslednou kvalitu ovlivňuje mnoho parametrů a je proto nutností, aby CVD sestava byla schopná tyto parametry měnit a sledovat jak před samotným procesem růstu, tak během něj. Proto jsme navrhli CVD reaktor, který umožňuje sledovat a ovládat tlak v aparatuře, průtoky vháněných plynů, teplotu během experimentu a rychlost ohřátí a chlazení vzorku. Toho všeho je dosaženo v naší CVD sestavě, která může sloužit nejen k růstu grafenu, ale i k termodesorpční spektroskopii (TDS), sledování oxidace či úpravě kovů pomocí žíhání. Veliká výhoda celé sestavy je možnost jednoduché výměny lahví s vháněným plynem a také rychlé chlazení vzorku, které je nutné nejen k růstu kvalitního grafenu, ale i k mnoha jiným experimentům vyžadujících šokové změny teplot.
Czech name
CVD pec pro výrobu grafenu s posuvným reaktorem
Czech description
Funkční vzorek pro růst kvalitního grafenu byl navržen v rámci řešení projektu GA22-34286S – Zkoumání rozptylových jevů elektronů ve dvourozměrných krystalických materiálech při velmi nízkých energiích. Aplikace grafenu do nových součástek s sebou nese nutnost kvalitní CVD sestavy pro růst grafenu. Růst grafenu a jeho výslednou kvalitu ovlivňuje mnoho parametrů a je proto nutností, aby CVD sestava byla schopná tyto parametry měnit a sledovat jak před samotným procesem růstu, tak během něj. Proto jsme navrhli CVD reaktor, který umožňuje sledovat a ovládat tlak v aparatuře, průtoky vháněných plynů, teplotu během experimentu a rychlost ohřátí a chlazení vzorku. Toho všeho je dosaženo v naší CVD sestavě, která může sloužit nejen k růstu grafenu, ale i k termodesorpční spektroskopii (TDS), sledování oxidace či úpravě kovů pomocí žíhání. Veliká výhoda celé sestavy je možnost jednoduché výměny lahví s vháněným plynem a také rychlé chlazení vzorku, které je nutné nejen k růstu kvalitního grafenu, ale i k mnoha jiným experimentům vyžadujících šokové změny teplot.
Classification
Type
G<sub>funk</sub> - Functional sample
CEP classification
—
OECD FORD branch
20501 - Materials engineering
Result continuities
Project
<a href="/en/project/GA22-34286S" target="_blank" >GA22-34286S: Probing electron scattering phenomena of two-dimensional crystalline materials at very low energies</a><br>
Continuities
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Others
Publication year
2023
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Internal product ID
APL-2023-01
Numerical identification
—
Technical parameters
Funkční vzorek se skládá z posuvného CVD reaktoru, ovládání k CVD reaktoru, skleněné trubky, 2 průtokoměrů, digitálního měridla tlaku, CF kříže, stojanu na ocelové křížení, UHV uzávěrů, turbomolekularní vývěvy, hmotnostního spektrometru a pojízdné hliníkové podpěry.
Economical parameters
Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Lukáš Průcha, prucha@isibrno.cz.
Application category by cost
—
Owner IČO
68081731
Owner name
Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
V - Výsledek je využíván vlastníkem
Licence fee requirement
—
Web page
—