All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

The manufacturing process of apodized phase masks

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F23%3A00575662" target="_blank" >RIV/68081731:_____/23:00575662 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    čeština

  • Original language name

    Technologie výroby nelineárních fázových masek

  • Original language description

    Technologie přípravy fázových nelineárních masek je založena na kombinaci elektronové litografie a reaktivního iontového leptání. Jako substrát je použit materiál fused silica o tloušťce 2,286 mm. Maska, přes kterou se leptá skleněný substrát, je molybdenová vrstva o tloušťce 50 nm připravená magnetronovým naprašováním. Na kovovou masku je do rezistu PMMA o tloušťce 120 nm zapsán motiv mřížky elektronovou litografií se změnou periody 0,1 nm. Přes rezistovou masku se leptá reaktivním iontovým leptáním směsí plynu SF6 a Ar molybdenová maska, přes kterou se leptá skleněný substrát směsí plynů CHF3 a CF4. Přesnost naladění hloubky je ±5 nm.

  • Czech name

    Technologie výroby nelineárních fázových masek

  • Czech description

    Technologie přípravy fázových nelineárních masek je založena na kombinaci elektronové litografie a reaktivního iontového leptání. Jako substrát je použit materiál fused silica o tloušťce 2,286 mm. Maska, přes kterou se leptá skleněný substrát, je molybdenová vrstva o tloušťce 50 nm připravená magnetronovým naprašováním. Na kovovou masku je do rezistu PMMA o tloušťce 120 nm zapsán motiv mřížky elektronovou litografií se změnou periody 0,1 nm. Přes rezistovou masku se leptá reaktivním iontovým leptáním směsí plynu SF6 a Ar molybdenová maska, přes kterou se leptá skleněný substrát směsí plynů CHF3 a CF4. Přesnost naladění hloubky je ±5 nm.

Classification

  • Type

    Z<sub>tech</sub> - Verified technology

  • CEP classification

  • OECD FORD branch

    10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/FW01010379" target="_blank" >FW01010379: Nonlinear diffraction fiber elements for sensor systems</a><br>

  • Continuities

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Others

  • Publication year

    2023

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Internal product ID

    APL-2023-03

  • Numerical identification

  • Technical parameters

    Technologie pro výrobu nelineárních fázových masek pro vlnovou délku dopadajícího světla 248 nm pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání do materiálu fused silica. Přesnost zápisu periody mřížky je 0,1 nm, přesnost naladění hloubky mřížky je ±5 nm.

  • Economical parameters

    Ověřená technologie realizovaná při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz.

  • Application category by cost

  • Owner IČO

    68081731

  • Owner name

    Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.

  • Owner country

    CZ - CZECH REPUBLIC

  • Usage type

    A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

  • Licence fee requirement

    A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

  • Web page