A diffractive optical element created by picosecond laser micromachining at a wavelength of 257 nm for shaping a optical beam

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F24%3A00586897" target="_blank" >RIV/68081731:_____/24:00586897 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

čeština

Original language name

Difrakční optický element vytvořený pikosekundovým obráběním na vlnové délce 257 nm pro tvarování optického svazku

Original language description

Fázová a difrakční maska sloužící ke korekci optických vad konkrétního objektivu. Vzniká hloubkovým strukturovaným gravírováním optického skla dle optického návrhu pomocí pikosekundového mikroobrábění. Podstatou mikroobráběcí technologie je směrování pikosekundových pulzů vlnové délky 257 nm přes skenovací modul a F-theta telecentrický objektiv na obráběný materiál, kde dochází ke studené fotoablaci v místě dopadu laserového pulzu. Vytvořený reliéf slouží například pro kompenzaci optických vad daného objektivu a obecně pro tvarování rovnoběžného optického svazku. Pro obrábění použitá vlnová délka 257 nm umožňuje díky malé velikosti ohniskového spotu (který fyzikálně souvisí s použitou vlnovou délkou) vytvářet požadované mikrostruktury s potřebnou přesnost a velikostí. Vnější nrozměry masky a funkčního vzorku jsou 8x8 mm2 (viz Obr. 1), maximální hloubka elementu designovaného pro vlnovou délku 532 nm činí 266 nm, která je rozdělena do 64 úrovní (Obr. 2 a Obr. 3). Vstupní data pro obrábění jsou tvořena bitmapou - pro tuto velikost činí rozlišení 512x512 px (cca 16 um/px). Níže snímky části struktury z konfokálního laserového skenovacího mikroskopu.

Czech name

Difrakční optický element vytvořený pikosekundovým obráběním na vlnové délce 257 nm pro tvarování optického svazku

Czech description

Fázová a difrakční maska sloužící ke korekci optických vad konkrétního objektivu. Vzniká hloubkovým strukturovaným gravírováním optického skla dle optického návrhu pomocí pikosekundového mikroobrábění. Podstatou mikroobráběcí technologie je směrování pikosekundových pulzů vlnové délky 257 nm přes skenovací modul a F-theta telecentrický objektiv na obráběný materiál, kde dochází ke studené fotoablaci v místě dopadu laserového pulzu. Vytvořený reliéf slouží například pro kompenzaci optických vad daného objektivu a obecně pro tvarování rovnoběžného optického svazku. Pro obrábění použitá vlnová délka 257 nm umožňuje díky malé velikosti ohniskového spotu (který fyzikálně souvisí s použitou vlnovou délkou) vytvářet požadované mikrostruktury s potřebnou přesnost a velikostí. Vnější nrozměry masky a funkčního vzorku jsou 8x8 mm2 (viz Obr. 1), maximální hloubka elementu designovaného pro vlnovou délku 532 nm činí 266 nm, která je rozdělena do 64 úrovní (Obr. 2 a Obr. 3). Vstupní data pro obrábění jsou tvořena bitmapou - pro tuto velikost činí rozlišení 512x512 px (cca 16 um/px). Níže snímky části struktury z konfokálního laserového skenovacího mikroskopu.

Type

G_funk - Functional sample

CEP classification

—

OECD FORD branch

10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Project

<a href="/en/project/TN02000020" target="_blank" >TN02000020: Centre of Advanced Electron and Photonic Optics</a><br>

Continuities

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Publication year

2024

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Internal product ID

APL-2024-03

Numerical identification

—

Technical parameters

Fázová a difrakční maska sloužící ke korekci optických vad konkrétního objektivu. Vzniká hloubkovým strukturovaným gravírováním taveného křemene dle optického návrhu. Slouží pro kompenzaci optických vad daného objektivu a obecně pro tvarování rovnoběžného optického svazku. Pro obrábění použitá vlnová délka 257 nm umožňuje díky malé velikosti ohniskového spotu a vhodným charakteristikám absorpce záření (který fyzikálně souvisí s použitou vlnovou délkou) vytvářet požadované mikrostruktury s potřebnou přesností a velikostí. Vnější rozměry masky jsou 8x8 mm2, maximální hloubka elementu designovaného pro vln. délku 532 nm činí 266 nm, která je rozdělena do 64 úrovní. Vstupní data pro obrábění jsou tvořena bitmapou - pro tuto velikost činí rozlišení 512x512 px (cca 16 um/px). Níže snímek části struktury z konfokálního laserového skenovacího mikroskopu.

Economical parameters

Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: doc. RNDr. Libor Mrňa, Ph.D., mrna@isibrno.cz.

Application category by cost

—

Owner IČO

68081731

Owner name

Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.

Owner country

CZ - CZECH REPUBLIC

Usage type

P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence

Licence fee requirement

Z - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek

Web page

—