XPS and He II photoelectron yield study of the activation process in Ti-Zr NEG films
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F03%3A00100134" target="_blank" >RIV/68378271:_____/03:00100134 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
XPS and He II photoelectron yield study of the activation process in Ti-Zr NEG films
Original language description
An activation process of the Ti-Zr thin films was studied by X-ray induced photoelectron spectroscopy and by measurements of ultraviolet induced photoelectron yield
Czech name
Využití výtěžku fotoelektronů buzených čarou He II a rtg zářením ke studiu procesu aktivace Ti-Zr nevypařovaných tenkých vrstev
Czech description
Aktivační proces Ti-Zr tenkých vrstev (getrů) byl studován měřením výtěžku fotoelektronů buzených rtg a He II zářením
Classification
Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
—
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2003
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Name of the periodical
Vacuum
ISSN
0042-207X
e-ISSN
—
Volume of the periodical
71
Issue of the periodical within the volume
-
Country of publishing house
GB - UNITED KINGDOM
Number of pages
5
Pages from-to
329-333
UT code for WoS article
—
EID of the result in the Scopus database
—