Interaction of oxygen with a-C:H, a-C films and other carbon materials

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F04%3A00100093" target="_blank" >RIV/68378271:_____/04:00100093 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Interaction of oxygen with a-C:H, a-C films and other carbon materials
Original language description
Magnetron sputtering films and glassy carbon and graphite were annealed in air and vacuum. The a- COx films contain most 18-22% of atomic oxygen. Annealing in air removal of H from a-C:H films and incorporation of O in both a-C:H and a-C films. Annealingof graphite and glassy carbon does not change their Raman spectra
Czech name
Interakce kyslíku s vrstvami a-C:H, a-C a dalšími uhlíkovými materiály
Czech description
Vrstvy připravené magnetronovým naprašováním, sklovitý uhlík a grafit byly temperovány na vzduchu a ve vakuu. Vrstvy COx obsahují až 18 - 22 at. % kyslíku. Temperance na vzduchu vede k odstranění H z vrstev a-C:H a k zabudování O do vrstev a-C:H a a-C. Temperance grafitu a sklovitého uhlíku nevyvolá změny v jejich Ramanových spektrech

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—

Project
<a href="/en/project/KSK2043105" target="_blank" >KSK2043105: Processes in Plasmas and Interactions of Radiation with Matter</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year
2004
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)