Mechanical properties of hydrogen-free a-C:Si films

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F04%3A00100235" target="_blank" >RIV/68378271:_____/04:00100235 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Mechanical properties of hydrogen-free a-C:Si films

Original language description

a-C:Si films with Si concentration between 3 and 50 at.% were prepared by magnetron sputtering of pure graphite and silicon. Films do not delaminate evan from steel substrates and remain stable after vacuum annealing up to 780oC. Mechanical properties (microhardness, intrinsic stress) and structure (electron diffraction, Raman spectra were investigated

Czech name

Mechanické vlastnosti vodíku prostých vrstev a-C:Si

Czech description

Vrstvy a-C:Si s koncentrací křemíku mezi 3 a 50 at. % byly připraveny magnetovým naprašováním čistého grafitu a křemíku. Vrstvy se neodlupují ani z ocelových podložek a po temperaci ve vakuu do 780 °C zůstávají stabilní. Zkoumány byly jejich mechanické vlastnosti (mikrotvrdost, vnitřní pnutí) a struktura (difrakce elektronů, Ramanův rozptyl)

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BM - Solid-state physics and magnetism

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2004

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Diamond and Related Materials

ISSN

0925-9635

e-ISSN

—

Volume of the periodical

13

Issue of the periodical within the volume

1350-1355

Country of publishing house

CH - SWITZERLAND

Number of pages

5

Pages from-to

1350-1355

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—