XUV-laser induced ablation of PMMA with nano-, pico-, and femtosecond pulses

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F05%3A00025721" target="_blank" >RIV/68378271:_____/05:00025721 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/00216208:11320/05:00005501
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
XUV-laser induced ablation of PMMA with nano-, pico-, and femtosecond pulses
Original language description
For conventional wavelength (UV-vis-IR) lasers delivering radiation energy to the surface of materials, ablation thresholds, etch (ablation) rates, and the quality of ablated structures often differ dramatically between short (typically nanosecond) and ultrashort (typically femtosecond) pulses. Various very short-wavelength (?<100 nm) lasers, emitting pulses with durations ranging from ~ 10 fs to ~1 ns, have recently been placed into routine operation, this has facilitated the investigation of how ablation characteristics depend on the pulse duration in the XUV spectral region
Czech name
Ablace PMMA indukovaná nano-, piko- a femtosekundovými impulzy XUV laserů
Czech description
Pro běžné dlouhovlnné (UV-vis-NIR) lasery závisí ablační charakteristiky velmi výrazně na tom, zda je záření na povrch materiálu směrováno v krátkých (typicky nanosekundových) či velmi krátkých (typicky femtosekundových) impulzech. V této práci se pokoušíme odpovědět na otázku, zda toto platí i pro lasery pracující v extrémním ultrafialovém (XUV) oboru

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BH - Optics, masers and lasers
OECD FORD branch
—

Project
Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)