EUV radiation from gas-puff laser plasma focused by

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21340%2F06%3A04128227" target="_blank" >RIV/68407700:21340/06:04128227 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
EUV radiation from gas-puff laser plasma focused by
Original language description
We present the recent progress in high intensity micro focused EUV beam generation. Ellipsoidal thin glass foils were used in Multi–foil optical systems for focusing radiation in 50 eV to 150 eV energy band from gas–puff laser plasma source.Multifoil optic (MFO) condenser was designed and tested for applications with Xe laser plasma gas–puff source. High intensity EUV beam focal spot was recorded, analyzed and compared with theoretical results from computer ray–tracing. Direct EUV lithography using radiation induced decomposition and ablation of TEFLON was studied.
Czech name
EUV záření z laserové plasmy fokusované multifóliovou optikou
Czech description
Prezentace nových výsledků vysoce intenzivního mikrofokusního EUV zdroje. Elipsoidální multifóliová optika fokusuje záření o energii 50 - 150 eV ze zdroje založeného na laserové plasmě. Popis a diskuze vývoje multifóliového kondenzoru, srovnání naměřených a předpovězených výsledků a EUV litografie a ablace materiálu.

Publication year
2006
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection
Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications
ISBN
0-8194-6396-5
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
9
Pages from-to
"631705-1"-"631705-9"
Publisher name
SPIE
Place of publication
Bellingham
Event location
San Diego
Event date
Aug 13, 2006
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—

Similar results(10)