Thin-Film Thickness Determination from a Spectral Reflectance Measurement by Using an Alternative Envelope Method
Result description
This paper deals with an alternative method to determine the thickness of a thin film on a substrate. A linear relation between the thin-film thickness and the wavelength of the reflectance spectrum tangent to the envelope function for specific interference order is revealed in a wide wavelength range. This relation enables the calculation of the thickness provided that the wavelength-dependent optical parameters of the thin film and the substrate are known. The methods allow to calculate the thicknessfrom the reflectance spectrum in a narrow range close to one extreme only as demonstrated both theoretically and experimentally for SiO2 thin-films on Si substrates. The results are discussed for two wavelength ranges and compared with those obtained bythe algebraic fitting method.
Keywords
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
Alternative codes found
RIV/61989100:27350/09:00021689
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti pomocí nové varianty obálkové metody
Original language description
Práce prezentuje metodu určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti s využitím nové varianty obálkové metody. Byl nalezen lineární vztah mezi vlnovou délkou tečny spektrální odrazivosti k obálkové funkci a odpovídající tloušťkou tenké vrstvy pro daný interferenční řád v širokém spektrálním oboru. Tento lineární vztah umožňuje výpočet tloušťky vrstvy na základě známých spektrálních optických parametrů vrstvy a podložky. Metoda umožňuje výpočet tloušťky ze znalostí pouze malé části spektra v okolí jednoho extrému, jak je demonstrováno teoreticky a experimentálně na systému SiO2-Si. Výsledky jsou porovnány s hodnotami získanými algebraickou fitovací metodou.
Czech name
Určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti pomocí nové varianty obálkové metody
Czech description
Práce prezentuje metodu určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti s využitím nové varianty obálkové metody. Byl nalezen lineární vztah mezi vlnovou délkou tečny spektrální odrazivosti k obálkové funkci a odpovídající tloušťkou tenké vrstvy pro daný interferenční řád v širokém spektrálním oboru. Tento lineární vztah umožňuje výpočet tloušťky vrstvy na základě známých spektrálních optických parametrů vrstvy a podložky. Metoda umožňuje výpočet tloušťky ze znalostí pouze malé části spektra v okolí jednoho extrému, jak je demonstrováno teoreticky a experimentálně na systému SiO2-Si. Výsledky jsou porovnány s hodnotami získanými algebraickou fitovací metodou.
Classification
Type
Jx - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
—
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2009
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Name of the periodical
Jemná mechanika a optika
ISSN
0447-6441
e-ISSN
—
Volume of the periodical
54
Issue of the periodical within the volume
6
Country of publishing house
CZ - CZECH REPUBLIC
Number of pages
4
Pages from-to
—
UT code for WoS article
—
EID of the result in the Scopus database
—
Basic information
Result type
Jx - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP
BM - Solid-state physics and magnetism
Year of implementation
2009