Study of hybrid deposition process and its application for thin film deposition
Public support
Provider
Czech Science Foundation
Programme
Post-graduate (doctorate) grants
Call for proposals
Postdoktorandské granty 8 (SGA02008GA1PD)
Main participants
—
Contest type
VS - Public tender
Contract ID
202/08/P038
Alternative language
Project name in Czech
Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Annotation in Czech
Tento projekt je zaměřen na studium chování hybridního PVD-PECVD procesu, který bude využit pro přípravu nanokompozitních n-Ti:C/a-C:H a a-BCN:H materiálů. Jako zdroj uhlíku pro přípravu tenkých vrstev bude použit některý z plynných uhlovodíků dodávaný přímo do depozičního reaktoru, který zcela nahradí tradiční rozprašování uhlíkového terče. Hysterezní chování tohoto depozičního procesu a vlastnosti jím připravených vrstev budou srovnány s PVD procesem. Bude provedena srovnávací studie pro různé druhy uhlovodíků. Na základě provedených experimentů bude vylepšen stávající model reaktivního magnetronového naprašování. Tento model bude pracovat s nerovnoměrným tvarem hustoty výbojového proudu a bude rozšířen o interakci plynného uhlovodíku s povrchem magnetronové katody a stěnami depozičního reaktoru.
Scientific branches
R&D category
ZV - Basic research
CEP classification - main branch
BL - Plasma physics and discharge through gases
CEP - secondary branch
—
CEP - another secondary branch
—
OECD FORD - equivalent branches <br>(according to the <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">converter</a>)
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Completed project evaluation
Provider evaluation
V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)
Project results evaluation
Hybrid PVD-PECVD process of target sputtering in hydrocarbon containing atmosphere was successfully developed. The process combines aspects of both conventional reactive magnetron sputtering (PVD) and plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD). Comparing to reactive magnetron sputtering, the hybrid PVD-PECVD process shows suppressed hysteresis behaviour, there are no different modes of op
Solution timeline
Realization period - beginning
Jan 1, 2008
Realization period - end
Dec 31, 2010
Project status
U - Finished project
Latest support payment
Apr 16, 2010
Data delivery to CEP
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data delivery code
CEP11-GA0-GP-U/04:3
Data delivery date
Mar 20, 2015
Finance
Total approved costs
1,125 thou. CZK
Public financial support
1,125 thou. CZK
Other public sources
0 thou. CZK
Non public and foreign sources
0 thou. CZK