Research and development of new plasma-activated ALD system with a unique source of low-temperature plasma based on microwave surfatron and ECWR discharge.
Project goals
The aim of the project is design, development and implementation of plasma ALD system for low-temperature deposition of thin dielectric and metal films with possibility of application of the atomic layer etching (ALEt). The developed system will appropriately implement the low-temperature discharge into the ALD system. The project will use MW surfatron and ECWR plasma sources. The project focus on the creation of a homogeneous and sufficiently active plasma (high degree of ionization, dissociation and excitation of precursors and reactants) above the substrate. We expect to achieve a higher quality of deposited films compared to the available plasma-activated ALD processes and that developed technology will allow to prepare new types of thin films on new progressive types of substrates.
Keywords
ALDPE-ALDALEtsurfatronECWR plasmathin filmsplasma diagnostics
Public support
Provider
Technology Agency of the Czech Republic
Programme
Programme for funding of applied research and experimental development DELTA
Call for proposals
DELTA 3 (STA02017TF03)
Main participants
SVCS Process Innovation s.r.o.
Contest type
VS - Public tender
Contract ID
2016TF03000025
Alternative language
Project name in Czech
Výzkum a vývoj nového plazma aktivovaného ALD depozičního systému s unikátním zdrojem nízkoteplotního plazmatu na bázi mikrovlnného surfatronu a ECWR výboje.
Annotation in Czech
Cílem projektu je návrh, vývoj a realizace plazmatického ALD systému pro nízkoteplotní depozice tenkých vrstev dielektrik a kovů s možností aplikace principu atomárního leptání (ALEt). Vyvinutý systém bude založen na vhodné implementaci nízkoteplotního výboje do ALD systému. V rámci projektu bude jako zdroj plazmatu využito systému mikrovlnných surfatronů a tzv. ECWR výboje. Projekt se hlavně zaměří na vytvoření homogenního a dostatečně aktivního plazmatu (s vysokým stupněm ionizace, disociace a excitace prekurzorů a reaktantů) v oblasti nad substrátem. Očekáváme, že oproti dnes dostupným plasma aktivovaným-ALD technologiím bude dosaženo vyšší kvality deponovaných vrstev a vyvinutá technologie umožní připravovat jak nové typy tenkých vrstev, tak i využít nové progresivní typy substrátů.
Scientific branches
R&D category
VV - Exeperimental development
CEP classification - main branch
BL - Plasma physics and discharge through gases
CEP - secondary branch
JP - Industrial processes and processing
CEP - another secondary branch
BM - Solid-state physics and magnetism
10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
20501 - Materials engineering
20705 - Remote sensing
20706 - Marine engineering, sea vessels
20707 - Ocean engineering
Completed project evaluation
Provider evaluation
U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)
Project results evaluation
The main goal of the project was fulfilled and the declared results were also achieved according to the valid methodology, which can find application on the market. On the other hand, there was no time space for preparing the deposition process of a larger number of different types of thin layers, as well as for the low-temperature deposition of thin metal layers. Based on the available information, it can be concluded that foreign cooperation was ongoing, planned activities both from the Czech side and from the foreign partner were carried out in accordance with the project proposal. International cooperation contributed to the fulfillment of the project's goals. The recipient is also considering further cooperation.
Solution timeline
Realization period - beginning
Nov 1, 2016
Realization period - end
Oct 31, 2019
Project status
U - Finished project
Latest support payment
Feb 28, 2019
Data delivery to CEP
Confidentiality
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Data delivery code
CEP20-TA0-TF-U
Data delivery date
May 12, 2023
Finance
Total approved costs
27,370 thou. CZK
Public financial support
20,124 thou. CZK
Other public sources
0 thou. CZK
Non public and foreign sources
7,246 thou. CZK
Basic information
Recognised costs
27 370 CZK thou.
Public support
20 124 CZK thou.
73%
Provider
Technology Agency of the Czech Republic
CEP
BL - Plasma physics and discharge through gases
Solution period
01. 11. 2016 - 31. 10. 2019