Mirror effect in PECVD reactor and its explanation via MC-PIC computer simulation

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F04%3A00011467" target="_blank" >RIV/00216224:14310/04:00011467 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Mirror effect in PECVD reactor and its explanation via MC-PIC computer simulation

Original language description

We have studied thin film deposition from methane and thin film sputtering in argon in low pressure rf discharge. We have observed that thickness of a thin film deposited on the upper (grounded) electrode has mirrored substrates placed on the bottom rf powered electrode. The mirror effect has been studied via Monte Carlo - Particle In Cell (MC-PIC) computer simulation. In our explanation the mirror effect is caused by the difference between secondary electron emission coefficient of substrate material and material of the powered electrode. This difference in the secondary electron emission coefficient affects plasma density upon the substrates and this leads to higher or lower deposition rate on the upper electrode. In our simulation we have calculateddistribution of impact position for electrons on grounded electrode that have flew from the powered electrode. We have calculated this distribution for ions created in ionization collisions (of secondary electrons with neutrals) too. We

Czech name

Zrcadlový jev v PECVD reaktoru a jeho vysvětlení pomocí MC-PIC počitačové simulace

Czech description

Při studiu depozice tenkých vrstev pomocí metody PECVD byl pozorován tzv. zrcadlový jev. Zrcadlovým jevem myslíme to, že deponovaná vrstva na vrchní elektrodě odráží substrat na spodní elektrodě. Hrany obrazu nejsou zcela ostré. Tento jev jsem se snažilivzsvětli pomocí počitačových simulací, kde jako hlavní příčinu označujeme rozdílnost sekundární emise substrátů a dolní elektrody. Jako hlavní výsledek naších simulací uvádíme prostorové rozděleni sekundárních elektronů a iontů dopadajících na protějšíelektrodu.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/GA202%2F03%2F0827" target="_blank" >GA202/03/0827: A study of elementary processes in low-temperature and technologically oriented plasmas and the development of relevant diagnostic methods</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2004

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Czech. J. Phys.

ISSN

0011-4626

e-ISSN

—

Volume of the periodical

2004

Issue of the periodical within the volume

54

Country of publishing house

CZ - CZECH REPUBLIC

Number of pages

6

Pages from-to

"C527"-"C532"

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—