Monte Carlo and Particle in Cell Simulation of Mirror Effect in PECVD reactor

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F04%3A00011745" target="_blank" >RIV/00216224:14310/04:00011745 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Monte Carlo and Particle in Cell Simulation of Mirror Effect in PECVD reactor

Original language description

We have studied thin film plasma enhanced chemical vapor deposition from methane and thin film sputtering in argon in low pressure rf discharge. We have observed that thickness of a thin film deposited on the upper (grounded) electrode has mirrored substrates placed on the bottom rf powered electrode. This mirror images have not been quite sharp. The same effect was observed when the initially homogeneous film (deposited on the upper electrode) was sputtered in the argon plasma. Again the image of object on the bottom electrode was sputtered in the film on the upper electrode. The mirror effect has been studied via Particle In Cell - Monte Carlo (PIC-MC) computer simulation. In our explanation the mirror effect is caused by the difference between secondary electron emission coefficient of substrate material and material of substrate holder. This difference in the secondary electron emission coefficient affects plasma density upon the substrates and this leads to higher or lower deposit

Czech name

Monte Carlo a Particle in Cell simulace zrcadlového jevu v PECVD reaktoru

Czech description

Při studiu depozice tenkých vrstev pomocí metody PECVD byl pozorován tzv. zrcadlový jev. Zrcadlovým jevem myslíme to, že deponovaná vrstva na vrchní elektrodě odráží substrat na spodní elektrodě. Hrany obrazu nejsou zcela ostré. Tento jev jsem se snažilivzsvětli pomocí počitačových simulací, kde jako hlavní příčinu označujeme rozdílnost sekundární emise substrátů a dolní elektrody. Jako hlavní výsledek naších simulací uvádíme prostorové rozděleni sekundárních elektronů a iontů dopadajících na protějšíelektrodu.

Type

D - Article in proceedings

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/GA202%2F03%2F0827" target="_blank" >GA202/03/0827: A study of elementary processes in low-temperature and technologically oriented plasmas and the development of relevant diagnostic methods</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Publication year

2004

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Article name in the collection

WDS'04 Proceedings of Contributed Papers, Part II

ISBN

80-86732-32-0

ISSN

—

e-ISSN

—

Number of pages

6

Pages from-to

287-292

Publisher name

MATFYZPRESS

Place of publication

Prague, (Czech republic)

Event location

Prague

Event date

Jun 15, 2004

Type of event by nationality

WRD - Celosvětová akce

UT code for WoS article

—