Optical Characterization of TiO2 Thin Films by the Combined Method of Spectroscopic Ellipsometry and Spectroscopic Photometry

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F05%3A00014797" target="_blank" >RIV/00216224:14310/05:00014797 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Optical Characterization of TiO2 Thin Films by the Combined Method of Spectroscopic Ellipsometry and Spectroscopic Photometry

Original language description

In this paper, results concerning the optical characterization of TiO2 thin films prepared by magnetron sputtering onto K64 glass plane-parallel plates are presented. The spectral dependences of the refractive index and extinction coefficient of these TiO2 thin films are introduced within the spectral region 230-1000 nm. For determining the values of these optical constants the method based on a combination of variable angle spectroscopic ellipsometry and spectroscopic photometry employing experimentaldata, of the transmittance and reflectances measured from both the sides of the films is used. For treatment of all the experimental data, the method utilizing Cauchy and Urbach formulae together with the single-wavelength method is employed. It is shownthat the TiO2 films studied are homogeneous in refractive index and uniform in thickness. Moreover, the values of roughness parameters of the upper boundaries of the TiO2 films are determined. Furthermore, it is shown that the band gap v

Czech name

Optická charakterizace tenkých vrstev TiO2 pomocí kombinované metody spektroskopické elipsometrie a spektroskopické fotometrie

Czech description

V článku jsou obsaženy výsledky týkající se optické charakterizace tenkých vrstev TiO2 připravených pomocí magnetronového naprašování na destičky ze skla K64. Spektrální závislosti indexu lomu a extinkčního koeficientu těchto TiO2 vrstev jsou uvedeny v spektrální oblasti 230 -1000 nm. Pro určení hodnot těchto optických konstant byla využita metoda založená na kombinaci víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické fotometrie využívající data propustnosti a odrazivosti měřené z obou stran vrstvy. Je použita metoda založená na využití Cauchy a Urbachovy formule spolu s metodou jednovlnovou. Je ukázáno, že studované vrstvy TiO2 jsou homogenní v indexu lomu a uniformní v tloušťce. Navíc jsou určeny hodnoty parametrů drsnosti horních rozhraní TiO2 vrstev. Dále je také ukázáno, že hodnota šířky zakázaného pásu vrstev odpovídá 400 nm, tj. 3.1 eV.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BM - Solid-state physics and magnetism

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2005

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Vacuum

ISSN

0042-207X

e-ISSN

—

Volume of the periodical

80

Issue of the periodical within the volume

1-3

Country of publishing house

GB - UNITED KINGDOM

Number of pages

4

Pages from-to

159-162

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—