Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F08%3A00024835" target="_blank" >RIV/00216224:14310/08:00024835 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process
Original language description
A new method to control whether a radio-freguency (RF) reactive sputtering deposition processes runs in a pre-adjusted experimental conditions was proposed. The frequency spectrum of the cathode voltage and of the voltage on an uncompensated probe immersed in the plasma was measured and it was proved, that some of the harmonics are extremely sensitive markers of the transition between the metallic and the compound mode of the RF sputtering.
Czech name
Měření základní a vyšších harmonických frekvencí za účelem kontroly vf. reaktivního naprašování
Czech description
Byla navržena nová metoda kontroly vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování založená na měření frekvenčního spektra katodového napětí nebo napětí měřeného na nekompenzované sondě vsunuté do plazmatu. Amplitudy některých harmonických frekvencí byly velice citlivé na sledovaný přeskok mezi kovovým a otráveným režimem magnetronového naprašování.
Classification
Type
D - Article in proceedings
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/GP202%2F08%2FP038" target="_blank" >GP202/08/P038: Study of hybrid deposition process and its application for thin film deposition</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2008
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Article name in the collection
Programme and Abstract Book of the 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology
ISBN
978-80-01-04030-0
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
1
Pages from-to
—
Publisher name
CVUT v Praze
Place of publication
Praha
Event location
Praha
Event date
Jan 1, 2008
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—