All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F08%3A00024835" target="_blank" >RIV/00216224:14310/08:00024835 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    angličtina

  • Original language name

    Measurement of Fundamental and Higher Harmonic Frequencies as Tool to Control RF Sputtering Deposition Process

  • Original language description

    A new method to control whether a radio-freguency (RF) reactive sputtering deposition processes runs in a pre-adjusted experimental conditions was proposed. The frequency spectrum of the cathode voltage and of the voltage on an uncompensated probe immersed in the plasma was measured and it was proved, that some of the harmonics are extremely sensitive markers of the transition between the metallic and the compound mode of the RF sputtering.

  • Czech name

    Měření základní a vyšších harmonických frekvencí za účelem kontroly vf. reaktivního naprašování

  • Czech description

    Byla navržena nová metoda kontroly vysokofrekvenčního reaktivního magnetronového naprašování založená na měření frekvenčního spektra katodového napětí nebo napětí měřeného na nekompenzované sondě vsunuté do plazmatu. Amplitudy některých harmonických frekvencí byly velice citlivé na sledovaný přeskok mezi kovovým a otráveným režimem magnetronového naprašování.

Classification

  • Type

    D - Article in proceedings

  • CEP classification

    BL - Plasma physics and discharge through gases

  • OECD FORD branch

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/GP202%2F08%2FP038" target="_blank" >GP202/08/P038: Study of hybrid deposition process and its application for thin film deposition</a><br>

  • Continuities

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Others

  • Publication year

    2008

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Article name in the collection

    Programme and Abstract Book of the 23rd Symposium on Plasma Physics and Technology

  • ISBN

    978-80-01-04030-0

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Number of pages

    1

  • Pages from-to

  • Publisher name

    CVUT v Praze

  • Place of publication

    Praha

  • Event location

    Praha

  • Event date

    Jan 1, 2008

  • Type of event by nationality

    WRD - Celosvětová akce

  • UT code for WoS article