Nanostructuring of chalcogenide glasses using electron beam lithography

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216275%3A25310%2F06%3A00004614" target="_blank" >RIV/00216275:25310/06:00004614 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Nanostructuring of chalcogenide glasses using electron beam lithography
Original language description
We have investigated nanostructuring capabilities of As-S chalcogenide glasses using electron beam lithography. After exposure to electron beam the thin films of these inorganic glasses can be etched in alkaline amine solvent with high selectivity. Dissolution rate is linearly proportional to the electron dose and Gaussian electron beam intensity profile is well replicated in the shape of individual lines. High resolution smooth, shaped nanostructures have been fabricated in chalcogenide thin films withdimensions well below 100 nm and aspect ratio about 3
Czech name
Tvorba nanostruktur v chalkogenidových sklech pomocí elektronové litografie
Czech description
Byla studována možnost tvorby nanostruktur v chalkogenidových sklech systému As-S pomocí elektronové litografie. Bylo prokázáno, že po expozici svazkem elektronů lze selektivně leptat tenké vrstvy těchto skel v aminových bázích, přičemž rychlost rozpouštění je lineárně závislá na expoziční dávce. Byla úspěšně realizována tvorba nanostruktur s motivy hluboko pod 100 nm v těchto sklech.

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
CA - Inorganic chemistry
OECD FORD branch
—

Publication year
2006
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)