Complete optical characterization of non-uniform SiOx thin films using imaging spectroscopic reflectometry

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F08%3APU75023" target="_blank" >RIV/00216305:26210/08:PU75023 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Complete optical characterization of non-uniform SiOx thin films using imaging spectroscopic reflectometry
Original language description
Complete optical characterization of SiOx films non-uniform in thickness is performed using imaging spectroscopic reflectometry (ISR). It is shown that by using this technique it is possible to determine the area distribution of the local thickness (areamap) of these films with arbitrary shape of this thickness non-uniformity. Furthermore, it is shown that the SiOx films studied do not exhibit the area non-uniformity in dispersion (material) parameters and optical constants.
Czech name
Kompletní optická charakterizace neuniformních SiOx tenkých vrstev pomocí zobrazovací spektroskopické reflektometrie
Czech description
Je provedena kompletní optická charakterizace SiOx tenkých vrstev neuniformních v tloušťce pomocí zobrazovací spektroskopické reflektometrie. Je ukázáno, že pomocí této techniky je možno určit plošné rozložení lokální tloušťky těchto vrstev při libovolném tvaru jejich neuniformity. Dále je ukázáno, že studované vrstvy nevykazují plošnou neuniformitu v disperzních (materiálových) parametrech a optických konstantách.

Project
<a href="/en/project/FT-TA3%2F142" target="_blank" >FT-TA3/142: Analysis of the optical properties of solar cells.</a><br>
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2008
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)