IonProfile
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F09%3APR24293" target="_blank" >RIV/00216305:26210/09:PR24293 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
IonProfile
Original language description
Soubor programů umožňující řízení hloubkových profiloměrů SIMS, TOF-LEIS a XPS. Jsou zde zahrnuty programy pro zpracování a simulace měřených dat metodou TOF-LEIS.
Czech name
IonProfile
Czech description
Soubor programů umožňující řízení hloubkových profiloměrů SIMS, TOF-LEIS a XPS. Jsou zde zahrnuty programy pro zpracování a simulace měřených dat metodou TOF-LEIS.
Classification
Type
R - Software
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/GP202%2F07%2FP486" target="_blank" >GP202/07/P486: Depth profiling of 2D nanostructures by SIMS, TOF-LEIS and XPS combined with ion beam sputtering</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2009
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Internal product ID
Software pro SIMS, LEIS a XPS
Technical parameters
Programováno v Delphi 6.0
Economical parameters
—
Owner IČO
00216305
Owner name
Ústav fyzikálního inženýrství