All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

High reflection coating on the glass substrate within two specifications R >= 98,5% @ 248 nm for angle of incidence 45, and R >= 98% @ 213 nm for angle of incidence 45

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F21%3APR37525" target="_blank" >RIV/00216305:26210/21:PR37525 - isvavai.cz</a>

  • Alternative codes found

    RIV/47677023:_____/21:N0000010

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    čeština

  • Original language name

    Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45

  • Original language description

    Realizace vysoce odrazných vrstev splňující požadavky na odrazivost ve vlnových délkách hluboké ultrafialové oblasti a to 213 nm nebo 248 nm. Vrstvy pro vlnovou délku 213 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů Al2O3 a SiO2. Vrstvy pro vlnovou délku 248 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů HfO2 a SiO2. Parametry odrazivosti dosahují hodnot R(213 nm) > 99,5 % , R(248 nm) > 98,9 %.

  • Czech name

    Vysoceodrazná vrstva na substrátu ve specifikaci R >= 98,5 % @ 248 nm a R >= 98 % @ 213 nm pro úhel dopadu 45

  • Czech description

    Realizace vysoce odrazných vrstev splňující požadavky na odrazivost ve vlnových délkách hluboké ultrafialové oblasti a to 213 nm nebo 248 nm. Vrstvy pro vlnovou délku 213 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů Al2O3 a SiO2. Vrstvy pro vlnovou délku 248 nm byly připraveny technologií magnetronového naprašování kombinací materiálů HfO2 a SiO2. Parametry odrazivosti dosahují hodnot R(213 nm) > 99,5 % , R(248 nm) > 98,9 %.

Classification

  • Type

    G<sub>funk</sub> - Functional sample

  • CEP classification

  • OECD FORD branch

    20506 - Coating and films

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/FV40328" target="_blank" >FV40328: Realization of layered systems with required spectral dependencies of reflectance and transmittance in the middle ultraviolet spectral range</a><br>

  • Continuities

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Others

  • Publication year

    2021

  • Confidentiality

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Data specific for result type

  • Internal product ID

    MEO_DP0026_2021_GFUNK02

  • Numerical identification

    182572

  • Technical parameters

    Vysoceodrazná vrstva na substrátu fused silica splňující R>=99,3% @248 nm, a R>=98,9% @213 nm pro úhel dopadu 45.

  • Economical parameters

    Bude použito ve výrobě.

  • Application category by cost

  • Owner IČO

    00216305

  • Owner name

    Vysoké učení technické v Brně

  • Owner country

    CZ - CZECH REPUBLIC

  • Usage type

    N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)

  • Licence fee requirement

  • Web page