Electronic device for electronically controled etching
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F04%3APU45710" target="_blank" >RIV/00216305:26220/04:PU45710 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Electronic device for electronically controled etching
Original language description
This paper covers control board for electronically controled etching. This device is designed in order to analyze and control optimal cathode etching process. Main function of this control unit is to control position system, measure etching current and temperature and control cathode etching process.
Czech name
Zařízení pro elektronicky řízené leptání
Czech description
Článek se zabývá zařízením pro leptání monokrystalického wolframového drátu, který se používá jako katoda pro elektronový litograf. Článek se zabývá popisem tohoto zařízení, jeho možnostmi a výsledném efektu na výrobní proces.
Classification
Type
D - Article in proceedings
CEP classification
JA - Electronics and optoelectronics
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
—
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2004
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Article name in the collection
PROCEEDINGS of IFAC WORKSHOP - PDS 2004 PROGRAMMABLE DEVICES AND SYSTEMS
ISBN
83-908409-8-7
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
2
Pages from-to
347-348
Publisher name
IFAC
Place of publication
Cracow, Poland
Event location
Cracow
Event date
Oct 18, 2004
Type of event by nationality
EUR - Evropská akce
UT code for WoS article
—